强流皮尔斯电子枪电子束聚焦系统模拟设计研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 强流电子光学系统概述 | 第13-15页 |
| 1.1.1 强流电子光学介绍 | 第13-14页 |
| 1.1.2 强流电子光学的应用 | 第14-15页 |
| 1.2 强流电子光学电子束加工技术 | 第15-16页 |
| 1.3 电子束加工技术的研究状况 | 第16-20页 |
| 1.3.1 国外研究现状、发展动态 | 第16-18页 |
| 1.3.2 国内研究现状、发展动态 | 第18-19页 |
| 1.3.3 电子束加工技术的应用及特点 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文研究的内容、目的 | 第20-23页 |
| 1.4.1 研究的内容 | 第20-21页 |
| 1.4.2 研究的目的 | 第21-23页 |
| 第2章 强流皮尔斯电子枪电磁场分析 | 第23-33页 |
| 2.1 基本假设 | 第23-24页 |
| 2.2 皮尔斯原理 | 第24页 |
| 2.3 电磁场理论分析 | 第24-28页 |
| 2.4 磁化机制 | 第28-30页 |
| 2.5 软件介绍 | 第30-33页 |
| 2.5.1 有限元分析方法基本思想 | 第30-31页 |
| 2.5.2 Ansys软件 | 第31页 |
| 2.5.3 CST粒子模拟软件 | 第31-33页 |
| 第3章 电子枪聚焦系统的设计 | 第33-55页 |
| 3.1 电子枪的设计流程 | 第33页 |
| 3.2 电子枪的主要参量 | 第33-35页 |
| 3.3 聚焦系统设计 | 第35-39页 |
| 3.3.1 参数指标 | 第35-36页 |
| 3.3.2 聚焦磁场的选择 | 第36-37页 |
| 3.3.3 布里渊磁场 | 第37页 |
| 3.3.4 磁场峰值 | 第37页 |
| 3.3.5 磁场周期 | 第37-38页 |
| 3.3.6 轨迹方程 | 第38-39页 |
| 3.4 聚焦线圈设计 | 第39-45页 |
| 3.4.1 空心圆柱线圈的特点 | 第39-40页 |
| 3.4.2 铁心的作用 | 第40-41页 |
| 3.4.3 铁心的磁化特点 | 第41页 |
| 3.4.4 本文线圈设计的研究 | 第41-45页 |
| 3.5 电子枪聚焦系统的电磁仿真 | 第45-47页 |
| 3.5.1 CST粒子工作室求解器 | 第45-47页 |
| 3.6 电子枪三维粒子模拟 | 第47-50页 |
| 3.6.1 模型的建立 | 第47-50页 |
| 3.6.2 电子枪的激励源 | 第50页 |
| 3.6.3 边界条件设置 | 第50页 |
| 3.6.4 栅格划分 | 第50页 |
| 3.7 仿真结果 | 第50-54页 |
| 3.8 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 聚焦系统模拟优化分析 | 第55-69页 |
| 4.1 聚焦系统设计的优化 | 第55-56页 |
| 4.2 改变电子枪的参量 | 第56-63页 |
| 4.2.1 改变第二次聚焦线圈的宽度 | 第56-58页 |
| 4.2.2 改变聚焦线圈的厚度 | 第58-59页 |
| 4.2.3 改变聚焦线圈的电流 | 第59-62页 |
| 4.2.4 改变聚焦线圈位置 | 第62-63页 |
| 4.3 阴极聚焦极厚度对电子注的影响 | 第63-64页 |
| 4.4 结构优化 | 第64-68页 |
| 4.5 本章小结 | 第68-69页 |
| 第5章 结论和展望 | 第69-73页 |
| 5.1 结论 | 第69-71页 |
| 5.2 展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 攻硕期间取得的成果 | 第79页 |
