小直径永磁球头磁流变抛光工艺技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题来源及意义 | 第8-9页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第8页 |
| 1.1.2 研究背景 | 第8-9页 |
| 1.2 磁流变抛光研究现状 | 第9-15页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2.3 研究现状综述 | 第14-15页 |
| 1.3 本课题的研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 小直径磁流变抛光头的研制和抛光模成形分析 | 第16-26页 |
| 2.1 小直径磁流变抛光头设计与循环系统搭建 | 第16-19页 |
| 2.1.1 小直径磁流变抛光头设计 | 第17-19页 |
| 2.1.2 磁流变液循环系统的搭建 | 第19页 |
| 2.2 抛光模成型分析 | 第19-23页 |
| 2.2.1 永磁抛光头磁场分析 | 第20页 |
| 2.2.2 磁敏颗粒所受磁场力的计算 | 第20-22页 |
| 2.2.3 磁流变液在抛光区的成形分析 | 第22-23页 |
| 2.3 抛光头的加工能力实验 | 第23-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 小直径永磁球头磁流变抛光机理及其数学模型 | 第26-42页 |
| 3.1 磁流变抛光去除机理 | 第26-27页 |
| 3.2 Bingham 介质流体润滑理论 | 第27-31页 |
| 3.2.1 Bingham 介质本构方程 | 第28-29页 |
| 3.2.2 流体润滑理论 | 第29-31页 |
| 3.3 抛光区的三维流体动力学分析 | 第31-36页 |
| 3.3.1 Reynolds 方程的推导 | 第31-33页 |
| 3.3.2 数值计算方法 | 第33-36页 |
| 3.4 小球头抛光数学模型与抛光机理 | 第36-40页 |
| 3.4.1 Preston 方程 | 第36-37页 |
| 3.4.2 材料去除数学模型 | 第37-39页 |
| 3.4.3 抛光机理分析 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 小直径永磁球头磁流变抛光工艺实验研究 | 第42-56页 |
| 4.1 实验设备与检测仪器 | 第42-43页 |
| 4.2 工艺参数对小直径永磁球头抛光的影响 | 第43-52页 |
| 4.2.1 平面定点抛光实验 | 第43-46页 |
| 4.2.2 圆柱抛光的影响参数研究 | 第46-52页 |
| 4.3 小直径永磁球头磁流变抛光加工能力实验 | 第52-54页 |
| 4.3.1 石英平面加工 | 第52-53页 |
| 4.3.2 弱磁不锈钢薄件的凹面加工 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
