摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 文献综述 | 第10-30页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 荧光化合物的发光原理及结构特点 | 第10-16页 |
1.2.1 荧光与荧光光谱 | 第10-12页 |
1.2.2 荧光产生的物质基础及影响因素 | 第12-15页 |
1.2.3 荧光参数 | 第15-16页 |
1.3 有机小分子荧光材料 | 第16-23页 |
1.3.1 香豆素 | 第17-18页 |
1.3.2 噁二唑 | 第18-19页 |
1.3.3 噻吩 | 第19-20页 |
1.3.4 咪唑 | 第20-21页 |
1.3.5 咔唑 | 第21页 |
1.3.6 吡唑 | 第21-22页 |
1.3.7 喹啉 | 第22-23页 |
1.4 查尔酮荧光化合物的研究进展 | 第23-25页 |
1.5 希夫碱荧光化合物的研究进展 | 第25-29页 |
1.6 论文选题及研究工作 | 第29-30页 |
第二章 查尔酮荧光化合物的合成及性能研究 | 第30-44页 |
2.1 引言 | 第30-32页 |
2.2 结果与讨论 | 第32-40页 |
2.2.1 查尔酮的合成 | 第32-34页 |
2.2.2 查尔酮性能测试 | 第34-40页 |
2.3 实验部分 | 第40-43页 |
2.3.1 实验仪器和药品 | 第40-41页 |
2.3.2 实验操作 | 第41-43页 |
2.4 本章小结 | 第43-44页 |
第三章 无溶剂高频振动合成2-氨基噻吩衍生物 | 第44-53页 |
3.1 引言 | 第44-45页 |
3.2 结果与讨论 | 第45-49页 |
3.2.1 反应条件优化 | 第45-47页 |
3.2.2 底物拓展 | 第47-49页 |
3.3 实验部分 | 第49-52页 |
3.3.1 实验仪器和药品 | 第49-50页 |
3.3.2 实验操作 | 第50-52页 |
3.4 本章小结 | 第52-53页 |
第四章 希夫碱类化合物及其氟硼络合物的合成及荧光性能研究 | 第53-66页 |
4.1 引言 | 第53-54页 |
4.2 实验合成路线 | 第54页 |
4.3 结果与讨论 | 第54-62页 |
4.3.1 希夫碱小分子的合成 | 第54-56页 |
4.3.2 希夫碱硼络合物的合成 | 第56页 |
4.3.3 希夫戚小分子与希夫戚棚络合物焚光性能測试 | 第56-62页 |
4.4 实验部分 | 第62-65页 |
4.4.1 实验仪器和药品 | 第62-63页 |
4.4.2 实验操作 | 第63-65页 |
4.5 本章小结 | 第65-66页 |
第五章 总结与展望 | 第66-68页 |
5.1 结论 | 第66-67页 |
5.2 展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-77页 |
附录1 核磁谱图 | 第77-88页 |
附录2 高分辨谱图 | 第88-93页 |
附录3 化合物检索表 | 第93-94页 |
致谢 | 第94-95页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第95页 |