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掺钛氧化锌透明导电薄膜的制备及性能研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 引言第8-23页
    1.1 透明导电氧化物(TCO)薄膜第8-10页
        1.1.1 二氧化锡(SnO_2)基透明导电薄膜第8-9页
        1.1.2 氧化铟(In2O_3)基透明导电薄膜第9-10页
    1.2 氧化锌(ZnO)基透明导电薄膜第10-22页
        1.2.1 ZnO的基本性质第10-11页
        1.2.2 ZnO薄膜的光学性能第11-12页
        1.2.3 ZnO薄膜的电学性能第12页
        1.2.4 ZnO基透明导电薄膜的掺杂第12-14页
        1.2.5 ZnO基透明导电薄膜的应用第14-17页
        1.2.6 ZnO基透明导电薄膜的制备第17-22页
    1.3 本文的选题依据和研究内容第22-23页
第二章 TZO薄膜的制备和表征方法第23-31页
    2.1 脉冲激光沉积(PLD)第23-27页
        2.1.1 脉冲激光沉积的原理第23-24页
        2.1.2 脉冲激光沉积的特点第24-25页
        2.1.3 实验设备第25-27页
    2.2 实验原料及生长工艺第27-29页
        2.2.1 靶材的制备第27页
        2.2.2 衬底制备及其清洗第27页
        2.2.3 薄膜的制备第27-29页
    2.3 表征方法第29-31页
第三章 TZO薄膜的结构和光电性能第31-56页
    3.1 Ti含量对TZO薄膜性能的影响第31-37页
        3.1.1 Ti含量对TZO薄膜的成分及结构的影响第32-34页
        3.1.2 Ti含量对TZO薄膜电学性能的影响第34-35页
        3.1.3 Ti含量对TZO薄膜光学性能的影响第35-36页
        3.1.4 本节小结第36-37页
    3.2 衬底温度对TZO薄膜性能的影响第37-44页
        3.2.1 衬底温度对TZO薄膜的结构及表面形貌的影响第38-41页
        3.2.2 衬底温度对TZO薄膜电学性能的影响第41-42页
        3.2.3 衬底温度对TZO薄膜光学性能的影响第42-43页
        3.2.4 本节小结第43-44页
    3.3 氧气压强对TZO薄膜性能的影响第44-50页
        3.3.1 氧气压强对TZO薄膜结构的影响第45-46页
        3.3.2 氧气压强对TZO薄膜电学性能的影响第46-47页
        3.3.3 氧气压强对TZO薄膜光学性能的影响第47-48页
        3.3.4 本节小结第48-50页
    3.4 沉积时间对TZO薄膜性能的影响第50-56页
        3.4.1 沉积时间对TZO薄膜结构的影响第51-53页
        3.4.2 沉积时间对TZO薄膜电学性能的影响第53-54页
        3.4.3 沉积时间对TZO薄膜光学性能的影响第54页
        3.4.4 本节小结第54-56页
第四章 结论与展望第56-59页
    4.1 结论第56-58页
    4.2 展望第58-59页
参考文献第59-69页
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果第69-70页
致谢第70-72页

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