| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| 1.1 超导材料发展现状 | 第9-11页 |
| 1.2 高温超导发展现状 | 第11-13页 |
| 1.3 第二代高温超导带材——YBCO涂层导体 | 第13-20页 |
| 1.3.1 基带 | 第14-16页 |
| 1.3.2 缓冲层材料 | 第16-18页 |
| 1.3.3 YBCO超导材料 | 第18-20页 |
| 1.4 论文主要研究方向及创新之处 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-27页 |
| 第二章 CeO_2隔离层的制备和表征 | 第27-42页 |
| 2.1 IBAD基底及CeO_2隔离层发展现状 | 第27-29页 |
| 2.2 PLD法制备薄膜技术基本原理 | 第29-30页 |
| 2.3 CeO_2隔离层的制备 | 第30页 |
| 2.4 XRD薄膜织构度表征手段介绍 | 第30-32页 |
| 2.5 CeO_2隔离层的微观结构及表面形貌 | 第32-37页 |
| 2.5.1 IBAD-MgO的微结构的影响 | 第32-33页 |
| 2.5.2 沉积温度的影响 | 第33-34页 |
| 2.5.3 CeO_2隔离层厚度的影响 | 第34-35页 |
| 2.5.4 优化后CeO_2隔离层表面形貌及微结构 | 第35-37页 |
| 2.6 本章小结 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-42页 |
| 第三章 Ho_2Zr_2O_7隔离层的制备、表征与性能研究 | 第42-59页 |
| 3.1 超导隔离层研究现状 | 第42-43页 |
| 3.2 RF制备技术基本原理 | 第43-44页 |
| 3.3 AFM测试原理 | 第44-45页 |
| 3.4 SEM测试原理 | 第45-46页 |
| 3.5 HZO薄膜制备过程及表征手法 | 第46-47页 |
| 3.6 HZO薄膜的表面形貌和结构 | 第47-54页 |
| 3.6.1 沉积温度对HZO薄膜织构的影响 | 第47-49页 |
| 3.6.2 溅射功率对HZO隔离层织构的影响 | 第49-50页 |
| 3.6.3 高质量的HZO缓冲层的表面形貌 | 第50-53页 |
| 3.6.4 在IBAD-MgO模板HZO隔离层表面沉积的YBCO薄膜性能 | 第53-54页 |
| 3.7 本章小结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第四章 YBCO涂层导体在磁场中的超导性能 | 第59-67页 |
| 4.1 YBCO涂层导体超导性能研究现状 | 第59-61页 |
| 4.2 YBCO薄膜磁场下的性能 | 第61-65页 |
| 4.2.1 YBCO薄膜的制备过程及磁场下超导性能测量仪器 | 第61-62页 |
| 4.2.2 结果与讨论 | 第62-65页 |
| 4.3 本章小结 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 第五章 总结 | 第67-69页 |
| 5.1 本文工作总结 | 第67页 |
| 5.2 未来工作展望 | 第67-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及参与的项目 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
