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过渡金属氧化物/介孔SiO2复合薄膜的制备及其表面自洁净特性研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-11页
第一章 绪论第11-24页
   ·引言第11-12页
   ·介孔薄膜合成研究进展第12-19页
     ·介孔薄膜的合成机理第12-13页
     ·介孔薄膜的制备方法第13-16页
     ·EISA 工艺的影响因素第16-19页
   ·介孔薄膜自洁净特性研究进展第19-22页
     ·自洁净的形成机理第19-20页
     ·自洁净的研究现状第20-22页
   ·选题依据及研究内容第22-24页
     ·选题依据第22-23页
     ·研究内容第23-24页
第二章 实验材料与分析方法第24-30页
   ·实验药品与仪器分析第24-26页
     ·主要化学试剂第24-25页
     ·实验仪器第25-26页
   ·分析、表征方法第26-28页
     ·X 射线粉末衍射(XRD)分析方法第26页
     ·透射电镜(TEM)分析方法第26页
     ·扫描电镜(SEM)分析方法第26-27页
     ·紫外-可见(UV-vis)光谱分析方法第27页
     ·傅立叶红外光谱分析方法(FT-IR)第27页
     ·表面接触角分析方法第27-28页
   ·薄膜的光催化性能评价第28-30页
     ·以油酸为光催化降解对象第28页
     ·以甲基橙为光催化降解对象第28-30页
第三章 介孔Si0_2薄膜的制备及其超亲水性研究第30-38页
   ·引言第30页
   ·介孔Si0_2 薄膜的制备第30-31页
   ·结果与讨论第31-37页
     ·反应搅拌速率对介孔Si0_2 薄膜形成的影响第31-32页
     ·介孔Si0_2 薄膜的孔结构分析第32-33页
     ·介孔Si0_2 薄膜的透明度分析第33-34页
     ·介孔Si0_2 薄膜的超亲水性和防雾性能分析第34-36页
     ·介孔Si0_2 薄膜的超亲水性持续性分析第36-37页
   ·本章小结第37-38页
第四章 含钛介孔Si0_2薄膜的制备及其表面自洁净特性研究第38-46页
   ·前言第38页
   ·含钛介孔Si0_2 薄膜的制备第38-39页
   ·结果与讨论第39-45页
     ·含钛介孔Si0_2 薄膜的介孔结构分析第39-40页
     ·含钛介孔Si0_2 薄膜的透明度分析第40-41页
     ·含钛介孔Si0_2 薄膜的超亲水性分析第41-42页
     ·含钛介孔Si0_2 薄膜的光催化性能分析第42-45页
   ·本章小结第45-46页
第五章 Ti0_2/Si0_2分层薄膜的制备及其表面自洁净特性研究第46-54页
   ·前言第46页
   ·Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的制备第46-48页
     ·Ti0_2 薄膜的制备第46-47页
     ·Si0_2/Ti0_2 薄膜的制备第47页
     ·Ti0_2/Si0_2 薄膜的制备第47-48页
   ·结果与讨论第48-53页
     ·Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的XRD 图谱分析第48-49页
     ·Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的透明度分析第49-50页
     ·Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的超亲水性分析第50页
     ·S/T 的光催化性能分析第50-53页
   ·本章小结第53-54页
第六章 W0_3/ Ti0_2/Si0_2分层薄膜的制备及其表面自洁净特性研究第54-62页
   ·前言第54页
   ·W0_3/Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的制备第54-56页
     ·W0_3 薄膜的制备第54-55页
     ·W0_3/Si0_2 薄膜的制备第55页
     ·W0_2/Ti0_2/Si0_2 薄膜的制备第55-56页
     ·Si0_2/W0_3/Ti0_2 薄膜的制备第56页
   ·结果与讨论第56-61页
     ·W0_3/Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的XRD 图谱分析第56-57页
     ·W0_3/Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的透明度分析第57-58页
     ·W0_3/Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的超亲水性分析第58-59页
     ·W0_3/Ti0_2/Si0_2 分层薄膜的光催化性能分析第59-61页
   ·本章小结第61-62页
结论与展望第62-64页
 1 结论第62-63页
 2 展望第63-64页
参考文献第64-72页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第72-74页
致谢第74-76页
附件第76页

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