| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究的背景 | 第10-11页 |
| 1.2 TiO_2NTAs的研究进展 | 第11-13页 |
| 1.2.1 TiO_2NTAs的制备方法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 TiO_2NTAs在水处理中的应用 | 第12-13页 |
| 1.3 改性TiO_2NTAs的研究现状 | 第13-17页 |
| 1.3.1 TiO_2NTAs的改性方法 | 第13-15页 |
| 1.3.2 改性TiO_2NTAs在水处理中的应用 | 第15-17页 |
| 1.4 本论文的目的和意义及主要研究内容 | 第17-19页 |
| 1.4.1 本论文的目的和意义 | 第17-18页 |
| 1.4.2 论文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 实验材料及实验方法 | 第19-24页 |
| 2.1 化学试剂与实验仪器 | 第19-20页 |
| 2.1.1 实验试剂与材料 | 第19-20页 |
| 2.1.2 实验仪器与设备 | 第20页 |
| 2.2 改性TiO_2NTAs的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.1 TiO_2NTAs的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 MnO_2/TiO_2纳米管阵列的制备 | 第21页 |
| 2.2.3 CeO_2/TiO_2纳米管阵列的制备 | 第21页 |
| 2.3 样品表征及分析方法 | 第21-22页 |
| 2.3.1 电极表面形貌分析 | 第21-22页 |
| 2.3.2 电极晶型结构分析 | 第22页 |
| 2.3.3 元素组成及价态分析 | 第22页 |
| 2.3.4 紫外/可见漫反射吸收光谱分析 | 第22页 |
| 2.4 改性TiO_2NTAs光电化学性能测试 | 第22-23页 |
| 2.5 改性TiO_2NTAs应用去除能力测试 | 第23-24页 |
| 2.5.1 光应用去除能力测试 | 第23页 |
| 2.5.2 电催化和光电应用去除能力测试 | 第23-24页 |
| 第3章 MnO_2/TiO_2NTAs制备及性能研究 | 第24-54页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 制备条件对MnO_2/TiO_2NTAs表面形貌的影响 | 第24-30页 |
| 3.2.1 沉积反应电压的影响 | 第25页 |
| 3.2.2 MnO_2沉积反应量的影响 | 第25-26页 |
| 3.2.3 煅烧温度的影响 | 第26-30页 |
| 3.3 制备条件对MnO_2/TiO_2NTAs晶型的影响 | 第30-32页 |
| 3.3.1 沉积反应电压的影响 | 第30-31页 |
| 3.3.2 MnO_2沉积反应量的影响 | 第31页 |
| 3.3.3 煅烧温度的影响 | 第31-32页 |
| 3.4 MnO_2/TiO_2NTAs的化学形态分析 | 第32-34页 |
| 3.5 MnO_2/TiO_2NTAs的光吸收性能 | 第34-38页 |
| 3.5.1 沉积反应电压的影响 | 第35-36页 |
| 3.5.2 MnO_2沉积反应量的影响 | 第36-37页 |
| 3.5.3 煅烧温度的影响 | 第37-38页 |
| 3.6 MnO_2/TiO_2NTAs光阳极光电化学性能的分析 | 第38-42页 |
| 3.6.1 光电流强度的测试 | 第38-39页 |
| 3.6.2 光电压的测试 | 第39-40页 |
| 3.6.3 交流阻抗的测试 | 第40-42页 |
| 3.7 MnO_2/TiO_2NTAs光电催化去除甲基橙的性能 | 第42-48页 |
| 3.7.1 不同催化体系去除甲基橙的效果 | 第42-43页 |
| 3.7.2 沉积反应电压对甲基橙去除效率的影响 | 第43-45页 |
| 3.7.3 MnO_2沉积反应量对甲基橙去除效率的影响 | 第45-46页 |
| 3.7.4 煅烧温度对甲基橙去除效率的影响 | 第46页 |
| 3.7.5 MnO_2/TiO_2NTAs光阳极的稳定性 | 第46-48页 |
| 3.8 MnO_2增强TiO_2NTAs光电应用去除能力的机理分析 | 第48-53页 |
| 3.8.1 自由基产量的分析 | 第48-51页 |
| 3.8.2 MnO_2增强TiO_2NTAs光电应用去除能力的机理分析 | 第51-53页 |
| 3.9 本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 CeO_2/TiO_2NTAs制备及性能研究 | 第54-84页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 制备条件对CeO_2/TiO_2NTAs表面形貌的影响 | 第54-59页 |
| 4.2.1 沉积反应电压的影响 | 第54-55页 |
| 4.2.2 CeO_2沉积反应量的影响 | 第55-59页 |
| 4.2.3 煅烧温度的影响 | 第59页 |
| 4.3 CeO_2/TiO_2NTAs的化学形态 | 第59-62页 |
| 4.4 制备条件对CeO_2/TiO_2NTAs晶型的影响 | 第62-65页 |
| 4.4.1 沉积反应电压的影响 | 第62-63页 |
| 4.4.2 CeO_2沉积反应量的影响 | 第63-64页 |
| 4.4.3 煅烧温度的影响 | 第64-65页 |
| 4.5 CeO_2/TiO_2NTAs的光吸收性能研究 | 第65-69页 |
| 4.5.1 沉积反应电压的影响 | 第66-67页 |
| 4.5.2 CeO_2沉积反应量的影响 | 第67-68页 |
| 4.5.3 煅烧温度的影响 | 第68-69页 |
| 4.6 CeO_2/TiO_2NTAs光阳极光电化学性能的分析 | 第69-73页 |
| 4.6.1 光电流强度的测试 | 第69-70页 |
| 4.6.2 光电压的测试 | 第70-71页 |
| 4.6.3 交流阻抗的测试 | 第71-73页 |
| 4.7 CeO_2/TiO_2NTAs光电催化去除甲基橙的性能 | 第73-79页 |
| 4.7.1 不同催化体系去除甲基橙的效果 | 第73-74页 |
| 4.7.2 沉积反应电压对甲基橙去除效率的影响 | 第74-75页 |
| 4.7.3 CeO_2沉积反应量对甲基橙去除效率的影响 | 第75-76页 |
| 4.7.4 煅烧温度对甲基橙去除效率的影响 | 第76-77页 |
| 4.7.5 CeO_2/TiO_2NTAs光阳极的稳定性 | 第77-79页 |
| 4.8 CeO_2增强TiO_2NTAs光电应用去除能力的机理分析 | 第79-83页 |
| 4.8.1 ·OH产量分析 | 第79-81页 |
| 4.8.2 CeO_2增强TiO_2NTAs光电应用去除能力的机理分析 | 第81-83页 |
| 4.9 本章小结 | 第83-84页 |
| 结论 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-95页 |
| 致谢 | 第95-96页 |
| 攻读学位期间发表论文 | 第96页 |
