| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-14页 |
| 1.1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.1.2 硅烯及类硅烯的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.1.3 硅烯及类硅烯的应用 | 第13-14页 |
| 1.2 本文创新 | 第14-18页 |
| 2 理论部分 | 第18-24页 |
| 2.1 量子化学计算方法简介 | 第18-21页 |
| 2.1.1 密度泛函理论 | 第19页 |
| 2.1.2 QCISD方法 | 第19-20页 |
| 2.1.3 过渡态理论 | 第20-21页 |
| 2.1.4 PCM模型 | 第21页 |
| 2.2 本文所使用程序简介 | 第21-24页 |
| 2.2.1 Gaussian 09 | 第21页 |
| 2.2.2 GaussVewi软件 | 第21-22页 |
| 2.2.3 ChemDraw软件 | 第22页 |
| 2.2.4 ChemWindows软件 | 第22页 |
| 2.2.5 Origin软件 | 第22-24页 |
| 3 若干含氮杂环硅烯的理论研究 | 第24-32页 |
| 3.1 前言 | 第24页 |
| 3.2 计算方法 | 第24-25页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第25-30页 |
| 3.3.1 若干氮杂环硅烯的结构优化及能量对比 | 第25-26页 |
| 3.3.2 若干简单N杂环硅烯的结构、能量与轨道的理论研究 | 第26-30页 |
| 3.4 小结 | 第30-32页 |
| 4 若干含氮杂环类硅烯的理论研究 | 第32-42页 |
| 4.1 前言 | 第32页 |
| 4.2 计算方法 | 第32-33页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第33-41页 |
| 4.3.1 HNC=SiLiF的平衡构型 | 第35-36页 |
| 4.3.2 HNC=SiLiF的电荷分布 | 第36页 |
| 4.3.3 HNC=SiLiF与NH_3、H_2O的插入反应 | 第36-41页 |
| 4.3.3.1 过渡态的构型与能量分析 | 第37-39页 |
| 4.3.3.2 中间体和产物的构型与能量分析 | 第39页 |
| 4.3.3.3 插入反应的机理分析 | 第39-40页 |
| 4.3.3.4 两个插入反应的比较 | 第40-41页 |
| 4.4 小结 | 第41-42页 |
| 5 三重态类硅烯RB=SiLiF(R = CH_3，C_2H_5) 与HF、H_2O、NH_3的插入反应 | 第42-58页 |
| 5.1 前言 | 第42页 |
| 5.2 计算方法 | 第42-43页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第43-56页 |
| 5.3.1 CH_3B=SiLiF的平衡构型及其与RH (R = F，OF，NH_2)的插入反应 | 第43-49页 |
| 5.3.1.1 前驱体复合物 | 第46页 |
| 5.3.1.2 过渡态 | 第46页 |
| 5.3.1.3 中间体和产物 | 第46-47页 |
| 5.3.1.4 插入反应机理的分析 | 第47-49页 |
| 5.3.1.5 三个插入反应的比较 | 第49页 |
| 5.3.1.6 小结 | 第49页 |
| 5.3.2 C_2H_5B=SiLiF的平衡构型及其与RH(R= F，OH，NH_2)的插入反应 | 第49-56页 |
| 5.3.2.1 前驱体复合物 | 第50-51页 |
| 5.3.2.2 过渡态 | 第51-53页 |
| 5.3.2.3 中间体和产物 | 第53-54页 |
| 5.3.2.4 插入反应机理的分析 | 第54-55页 |
| 5.3.2.5 三个插入反应的比较 | 第55-56页 |
| 5.3.2.6 小结 | 第56页 |
| 5.4 结论 | 第56-58页 |
| 6 类硅烯H_2SiAlCl_3与RH(R= F，OH，NH_2，Cl，SH，PH_2)的取代反应 | 第58-68页 |
| 6.1 前言 | 第58页 |
| 6.2 计算方法 | 第58-59页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第59-65页 |
| 6.3.1 结构与能量分析 | 第59-62页 |
| 6.3.3 溶剂化效应 | 第62-65页 |
| 6.4 小结 | 第65-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 附录 | 第82-106页 |
| 作者简介 | 第106-108页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第108-110页 |
