石墨烯阵列场发射性能的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 场发射研究 | 第9-11页 |
| 1.2 石墨烯简介 | 第11-15页 |
| 1.2.1 石墨烯的结构和性能 | 第11-13页 |
| 1.2.2 石墨烯的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 石墨烯场发射阴极研究现状 | 第15-20页 |
| 1.4 论文研究意义和研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 石墨烯场发射模拟计算 | 第21-39页 |
| 2.1 数值计算分析方法 | 第22-26页 |
| 2.1.1 电场的数值计算 | 第22页 |
| 2.1.2 阴极场致电子发射计算 | 第22-24页 |
| 2.1.3 电子轨迹数值计算 | 第24-25页 |
| 2.1.4 数值计算过程设计 | 第25-26页 |
| 2.2 直立石墨烯环物理模型 | 第26-30页 |
| 2.3 依附石英柱生长的直立石墨烯环物理模型 | 第30-33页 |
| 2.4 依附石英凹槽生长的直立石墨烯环物理模型 | 第33-35页 |
| 2.5 三种模型的对比分析 | 第35-37页 |
| 2.6 本章小结 | 第37-39页 |
| 第三章 石墨烯的制备及表征方法 | 第39-46页 |
| 3.1 石墨烯的制备方法 | 第39-41页 |
| 3.1.1 机械剥离法 | 第39页 |
| 3.1.2 外延生长法 | 第39页 |
| 3.1.3 化学气相沉积法 | 第39-40页 |
| 3.1.4 氧化还原法 | 第40页 |
| 3.1.5 液相剥离法 | 第40-41页 |
| 3.1.6 其他方法 | 第41页 |
| 3.2 石墨烯的表征方法 | 第41-45页 |
| 3.2.1 光学显微镜 | 第42页 |
| 3.2.2 扫描电子显微镜 | 第42-43页 |
| 3.2.3 拉曼光谱仪 | 第43-44页 |
| 3.2.4 透射电子显微镜 | 第44页 |
| 3.2.5 原子力显微镜 | 第44-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 基底结构的制备 | 第46-53页 |
| 4.1 磁控溅射镀膜技术 | 第46页 |
| 4.2 光刻技术 | 第46-47页 |
| 4.3 铜和钛的湿法蚀刻 | 第47-48页 |
| 4.4 基底结构设计 | 第48-49页 |
| 4.5 基底结构制作过程 | 第49-51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 CVD法制备石墨烯 | 第53-59页 |
| 5.1 实验设备 | 第53-54页 |
| 5.2 铜膜上生长石墨烯 | 第54-56页 |
| 5.2.1 实验过程 | 第54页 |
| 5.2.2 实验结果与讨论 | 第54-56页 |
| 5.3 CVD法制备直立石墨烯 | 第56-58页 |
| 5.3.1 实验过程 | 第56-57页 |
| 5.3.2 实验结果与讨论 | 第57-58页 |
| 5.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 总结 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 作者简介 | 第69页 |
