| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第10-18页 |
| 1.1 质子治疗的优势 | 第10-11页 |
| 1.2 质子治疗发展现状 | 第11-12页 |
| 1.3 质子回旋加速器和质子同步加速器 | 第12-13页 |
| 1.4 共振慢引出技术 | 第13-15页 |
| 1.5 上海质子治疗示范装置 | 第15-16页 |
| 1.6 小结 | 第16-18页 |
| 第二章 RF-KO慢引出的理论基础 | 第18-32页 |
| 2.1 RF-KO慢引出的优点 | 第18页 |
| 2.2 三阶共振理论与哈密顿方程 | 第18-21页 |
| 2.3 引出束流的时间特性分析 | 第21-23页 |
| 2.4 RF－KO及束流发射度的扩大 | 第23-26页 |
| 2.5 AM幅度调制 | 第26-29页 |
| 2.6 影响慢引出束流稳定性的因素 | 第29-30页 |
| 2.7 小结 | 第30-32页 |
| 第三章 慢引出布局及跟踪模型设计 | 第32-38页 |
| 3.1 同步加速器布局 | 第32-33页 |
| 3.2 MATLAB和Accelerator Toolbox | 第33-34页 |
| 3.2.1 介绍 | 第33-34页 |
| 3.2.2 AT支持质子同步加速器的改造 | 第34页 |
| 3.3 跟踪模型设计 | 第34-37页 |
| 3.3.1 三种不同的模拟模型设计 | 第34-35页 |
| 3.3.2 三种模拟模型的对比和选择 | 第35-36页 |
| 3.3.3 模拟模型的其他部分 | 第36-37页 |
| 3.4 小结 | 第37-38页 |
| 第四章 慢引出束流分析 | 第38-56页 |
| 4.1 引出效率的影响因素 | 第38-42页 |
| 4.1.1 共振六极铁强度选择和工作点的影响 | 第39-40页 |
| 4.1.2 动量分散和色品对引出效率的影响 | 第40-41页 |
| 4.1.3 小结 | 第41-42页 |
| 4.2 引出束流的均匀性分析 | 第42-45页 |
| 4.2.1 工作点对束流均匀性影响分析 | 第43页 |
| 4.2.2 动量分散对束流均匀性的影响分析 | 第43-44页 |
| 4.2.3 色品对束流均匀性的影响分析 | 第44-45页 |
| 4.3 引出束流的稳定性分析 | 第45-51页 |
| 4.3.1 色品对束流稳定性影响分析 | 第46-47页 |
| 4.3.2 加速腔电压对束流稳定性影响分析 | 第47-48页 |
| 4.3.3 束流感受到的磁场纹波对束流稳定性影响分析 | 第48-50页 |
| 4.3.4 其它因素对束流稳定性的影响 | 第50-51页 |
| 4.4 引出束流的快速开关 | 第51-56页 |
| 4.4.1 加速腔电压对束流关断时间的影响 | 第51-52页 |
| 4.4.2 快四极铁的应用与单频信号 | 第52-56页 |
| 第五章 总结和展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |