| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 多孔陶瓷的分类 | 第13页 |
| 1.3 多孔陶瓷的应用 | 第13-15页 |
| 1.3.1 催化剂载体 | 第14页 |
| 1.3.2 防隔热材料 | 第14页 |
| 1.3.3 过滤、分离材料 | 第14-15页 |
| 1.3.4 功能化多孔陶瓷材料 | 第15页 |
| 1.4 多孔陶瓷的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.4.1 添加造孔剂法 | 第15-16页 |
| 1.4.2 发泡法 | 第16页 |
| 1.4.3 凝胶注模法 | 第16页 |
| 1.4.4 化学气相渗透法 | 第16页 |
| 1.4.5 冷冻干燥法 | 第16-17页 |
| 1.5 冷冻干燥法的国内外研究进展 | 第17-21页 |
| 1.6 氮化硅的结构特征及多孔氮化硅陶瓷的研究进展 | 第21-24页 |
| 1.6.1 氮化硅的结构特征 | 第21-23页 |
| 1.6.2 多孔氮化硅陶瓷的研究进展 | 第23-24页 |
| 1.7 论文工作的提出、研究内容和意义 | 第24-27页 |
| 第二章 实验及研究方法 | 第27-31页 |
| 2.1 实验原料 | 第27-28页 |
| 2.2 研究方法与实验设备 | 第28页 |
| 2.3 材料的组织结构分析和性能测试方法 | 第28-31页 |
| 2.3.1 力学性能测试 | 第28-29页 |
| 2.3.2 体积密度和气孔率测定 | 第29页 |
| 2.3.3 多孔陶瓷的孔径大小测试 | 第29页 |
| 2.3.4 烧结收缩的测定 | 第29-30页 |
| 2.3.5 物相分析 | 第30页 |
| 2.3.6 扫描电镜分析 | 第30页 |
| 2.3.7 介电性能分析 | 第30-31页 |
| 第三章 冷冻干燥法制备多孔氮化硅陶瓷 | 第31-53页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 实验原理与模具设计 | 第31-32页 |
| 3.3 工艺流程图 | 第32-33页 |
| 3.4 料浆的制备与特性 | 第33-36页 |
| 3.4.1 分散剂的种类 | 第33页 |
| 3.4.2 氮化硅料浆的Zeta电位随pH值的变化 | 第33-34页 |
| 3.4.3 氮化硅料浆的流变特性 | 第34-36页 |
| 3.5 实验配方、烧结制度及其他工艺参数的确定 | 第36-38页 |
| 3.6 分散剂含量的影响 | 第38-42页 |
| 3.6.1 气孔率、体积密度、力学性能 | 第38-39页 |
| 3.6.2 相变、微观分析 | 第39-41页 |
| 3.6.3 介电常数与介电损耗 | 第41-42页 |
| 3.7 粘结剂含量的影响 | 第42-46页 |
| 3.7.1 气孔率、体积密度、力学性能 | 第42-43页 |
| 3.7.2 相变、孔径分布、微观分析 | 第43-46页 |
| 3.8 料浆固相含量的影响 | 第46-51页 |
| 3.8.1 气孔率、体积密度、力学性能 | 第46-47页 |
| 3.8.2 相变、孔径分布、微观分析 | 第47-50页 |
| 3.8.3 介电常数与介电损耗 | 第50-51页 |
| 3.9 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 多孔氮化硅陶瓷微观结构及性能的优化与调控 | 第53-73页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 甘油的添加量对多孔氮化硅陶瓷性能的影响 | 第53-59页 |
| 4.2.1 气孔率、体积密度、力学性能 | 第53-55页 |
| 4.2.2 相变、孔径分布、微观分析 | 第55-58页 |
| 4.2.3 介电常数与介电损耗 | 第58-59页 |
| 4.3 硅溶胶的添加量对多孔氮化硅陶瓷的影响 | 第59-64页 |
| 4.3.1 气孔率、体积密度、力学性能 | 第59-60页 |
| 4.3.2 相变、孔径分布、微观分析 | 第60-63页 |
| 4.3.3 介电常数与介电损耗 | 第63-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64页 |
| 4.5 其他工作 | 第64-73页 |
| 4.5.1 微波烧结 | 第65-69页 |
| 4.5.2 热压烧结 | 第69-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-77页 |
| 5.1 结论 | 第73-74页 |
| 5.2 展望 | 第74-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 附录 | 第85页 |