摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第12-40页 |
1.1 氧化锌简介 | 第12-17页 |
1.1.1 氧化锌的晶体结构及性质 | 第12-13页 |
1.1.2 纳米氧化锌的制备 | 第13-15页 |
1.1.3 纳米氧化锌的应用 | 第15-17页 |
1.2 石墨烯简介 | 第17-31页 |
1.2.1 碳材料的发展 | 第17-19页 |
1.2.2 石墨烯的性质 | 第19-20页 |
1.2.3 石墨烯的制备方法 | 第20-26页 |
1.2.4 无机纳米粒子/石墨烯复合材料的制备 | 第26-31页 |
1.3 无机纳米粒子/石墨烯复合材料的应用 | 第31-34页 |
1.3.1 光电转换 | 第32页 |
1.3.2 能量存储 | 第32-33页 |
1.3.3 光催化 | 第33-34页 |
1.4 电化学沉积法 | 第34-38页 |
1.4.1 电化学沉积法的研究进展 | 第35页 |
1.4.2 电沉积法的技术特点 | 第35-38页 |
1.5 本研究的目的与意义 | 第38页 |
1.6 研究内容 | 第38-40页 |
第2章 实验材料及方法 | 第40-50页 |
2.1 氧化石墨烯的制备 | 第40-42页 |
2.1.1 实验试剂与仪器设备 | 第40-41页 |
2.1.2 氧化石墨烯的制备过程 | 第41-42页 |
2.2 三维多孔结构氧化石墨烯薄膜的制备 | 第42-44页 |
2.2.1 实验原料与仪器设备 | 第42-43页 |
2.2.2 三维多孔结构氧化石墨烯薄膜的制备 | 第43-44页 |
2.3 三维多孔结构石墨烯薄膜的制备 | 第44-45页 |
2.3.1 实验试剂 | 第44-45页 |
2.3.2 实验仪器与设备 | 第45页 |
2.3.3 三维多孔结构石墨烯薄膜的制备过程 | 第45页 |
2.4 氧化锌/石墨烯纳米复合材料的制备 | 第45-48页 |
2.4.1 实验试剂和仪器设备 | 第46-47页 |
2.4.2 电化学沉积的实验体系 | 第47页 |
2.4.3 电沉积的实验步骤 | 第47-48页 |
2.5 材料的表征与分析方法 | 第48-50页 |
2.5.1 扫描电子显微镜观察与分析 | 第48页 |
2.5.2 透射电子显微镜表征与分析 | 第48-49页 |
2.5.3 原子力显微镜表征与分析 | 第49页 |
2.5.4 X射线衍射物相分析 | 第49页 |
2.5.5 激光拉曼光谱表征与分析 | 第49页 |
2.5.6 荧光光谱表征与分析 | 第49-50页 |
第3章 三维结构石墨烯的制备工艺研究 | 第50-66页 |
3.1 引言 | 第50-51页 |
3.2 三维氧化石墨烯的制备工艺研究 | 第51-62页 |
3.2.1 氧化石墨烯的制备工艺 | 第51-54页 |
3.2.2 氧化石墨烯溶液浓度对旋涂后三维形貌的影响 | 第54-56页 |
3.2.3 旋涂速率对三维形貌的影响 | 第56-61页 |
3.2.4 旋涂工艺对氧化石墨烯薄膜厚度的影响 | 第61-62页 |
3.3 三维石墨烯结构的制备工艺 | 第62-65页 |
3.3.1 氧化石墨烯薄膜的还原工艺过程 | 第62页 |
3.3.2 还原石墨烯薄膜的Ramam表征与分析 | 第62-64页 |
3.3.3 高温热还原对三维形貌的影响 | 第64-65页 |
3.4 本章小结 | 第65-66页 |
第4章 氧化锌/三维石墨烯复合材料的制备工艺研究 | 第66-86页 |
4.1 引言 | 第66-67页 |
4.2 电沉积溶液体系的确定 | 第67-69页 |
4.3 电沉积溶液浓度和沉积温度的确定 | 第69-70页 |
4.4 电沉积电位对复合材料的影响 | 第70-77页 |
4.4.1 电沉积反应初始还原电位的确定 | 第70-71页 |
4.4.2 电沉积电位对复合材料形貌的影响 | 第71-75页 |
4.4.3 电沉积电位对复合材料物相结构的影响 | 第75-77页 |
4.5 电沉积时间对复合材料的影响 | 第77-82页 |
4.5.1 电沉积时间对复合材料形貌的影响 | 第77-80页 |
4.5.2 电沉积时间对复合材料物相结构的影响 | 第80-82页 |
4.6 优化工艺条件制备的复合材料的元素分布表征 | 第82-83页 |
4.7 优化工艺条件下制备的复合材料的光谱特征 | 第83-85页 |
4.7.1 拉曼光谱(Raman)分析 | 第83-84页 |
4.7.2 荧光(PL)光谱分析 | 第84-85页 |
4.8 本章小结 | 第85-86页 |
第5章 全文总结 | 第86-88页 |
参考文献 | 第88-98页 |
致谢 | 第98页 |