摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第13-31页 |
1.1 引言 | 第13-14页 |
1.2 阻垢剂简介 | 第14-15页 |
1.2.1 阻垢剂的定义 | 第14页 |
1.2.2 阻垢剂的类别 | 第14-15页 |
1.2.3 阻垢剂的作用机理 | 第15页 |
1.3 聚合物阻垢剂的类别 | 第15-19页 |
1.3.1 天然聚合物阻垢剂 | 第15-16页 |
1.3.2 均聚物阻垢剂 | 第16-17页 |
1.3.3 共聚物阻垢剂 | 第17-18页 |
1.3.4 绿色环保型聚合物阻垢剂 | 第18-19页 |
1.4 聚合反应简介 | 第19-24页 |
1.4.1 聚合反应类别 | 第19-21页 |
1.4.2 自由基聚合机理 | 第21-22页 |
1.4.3 引发剂 | 第22-24页 |
1.5 阻垢剂中的功能性官能团 | 第24-25页 |
1.6 阻垢性能的测定方法 | 第25-28页 |
1.6.1 静态阻垢性能评定方法 | 第25-28页 |
1.6.2 动态阻垢性能评定方法 | 第28页 |
1.7 本课题研究内容及意义 | 第28-31页 |
第2章 二乙烯三胺接枝丙烯酸-丙烯酸甲酯共聚物阻垢剂 | 第31-45页 |
2.1 合成路线 | 第31-32页 |
2.2 实验试剂 | 第32页 |
2.3 仪器设备 | 第32-33页 |
2.4 合成步骤 | 第33页 |
2.4.1 P-AAMA的合成 | 第33页 |
2.4.2 P-AAMA-DETA的合成 | 第33页 |
2.5 P-AAMA-DETA对硫酸钙阻垢性能的测定 | 第33-35页 |
2.5.1 溶液的配制 | 第34页 |
2.5.2 实验步骤 | 第34-35页 |
2.5.3 阻垢率的计算 | 第35页 |
2.6 结果与讨论 | 第35-43页 |
2.6.1 P-AAMA和P-AAMA-DETA的红外光谱图 | 第35-36页 |
2.6.2 TGA热重分析 | 第36-37页 |
2.6.3 XPS分析 | 第37页 |
2.6.4 P-AAMA-DETA的浓度对硫酸钙阻垢性能的影响 | 第37-38页 |
2.6.5 恒温温度对硫酸钙阻垢性能的影响 | 第38-39页 |
2.6.6 钙离子浓度对阻垢性能的影响 | 第39-40页 |
2.6.7 SEM电镜扫描分析 | 第40页 |
2.6.8 恒温水浴结果分析 | 第40-41页 |
2.6.9 P-AAMA-DETA的阻垢机理 | 第41-43页 |
2.7 本章小结 | 第43-45页 |
第3章 PMA-PAMPS共聚物的合成及抑制硫酸钙沉淀 | 第45-53页 |
3.1 合成路线 | 第45-46页 |
3.2 实验试剂 | 第46页 |
3.3 仪器设备 | 第46页 |
3.4 合成步骤 | 第46-47页 |
3.4.1 PMA-PAMPS合成 | 第46-47页 |
3.4.2 合成摩尔比例优化 | 第47页 |
3.4.3 PMA-PAMPS对硫酸钙阻垢性能的测试 | 第47页 |
3.5 结果与讨论 | 第47-52页 |
3.5.1 PMA-PAMPS的红外分析 | 第47-48页 |
3.5.2 元素分析 | 第48页 |
3.5.3 PMA-PAMPS质量浓度对硫酸钙阻垢性能的影响 | 第48-49页 |
3.5.4 温度对其阻垢性能的影响 | 第49-50页 |
3.5.5 高温下阻垢剂浓度对阻垢性能的影响 | 第50-51页 |
3.5.6 SEM电镜扫描分析 | 第51-52页 |
3.6 本章小节 | 第52-53页 |
第4章 盐酸羟胺接枝聚丙烯酸-丙烯酸甲酯共聚物阻垢剂 | 第53-63页 |
4.1 合成路线 | 第53-54页 |
4.2 实验试剂 | 第54页 |
4.3 仪器设备 | 第54页 |
4.4 合成步骤 | 第54-56页 |
4.4.1 P-AAMA的合成 | 第54-55页 |
4.4.2 P-AAMA-HOH的合成 | 第55页 |
4.4.3 配制FeCl3溶液 | 第55-56页 |
4.4.4 合成阻垢剂P-AAMA-HOH的阻垢性能测定 | 第56页 |
4.5 结果与讨论 | 第56-61页 |
4.5.1 P-AAMA-HOH的红外分析 | 第56-57页 |
4.5.2 元素分析 | 第57页 |
4.5.3 羟肟酸的检测 | 第57-58页 |
4.5.4 P-AAMA-HOH的质量浓度对硫酸钙阻垢性能的影响 | 第58-59页 |
4.5.5 温度对硫酸钙阻垢性能的影响 | 第59-60页 |
4.5.6 SEM电镜扫描 | 第60页 |
4.5.7 恒温水浴静态图片分析 | 第60-61页 |
4.6 本章小结 | 第61-63页 |
第5章 壳聚糖改性 | 第63-71页 |
5.1 合成路线 | 第63-64页 |
5.2 实验试剂 | 第64页 |
5.3 仪器设备 | 第64页 |
5.4 合成步骤 | 第64-65页 |
5.4.1 CMCTS的合成 | 第64-65页 |
5.4.2 MES缓冲溶液的配制 | 第65页 |
5.4.3 c-CMCTS-DETA的合成 | 第65页 |
5.5 结果与讨论 | 第65-69页 |
5.5.1 红外分析 | 第65-67页 |
5.5.2 溶解度的比较 | 第67页 |
5.5.3 元素分析 | 第67-68页 |
5.5.4 CMCTS与c-CMCTS-DETA质量浓度对阻垢性能的影响 | 第68页 |
5.5.5 恒温水浴静态图片分析 | 第68-69页 |
5.6 本章小结 | 第69-71页 |
第6章 结论 | 第71-73页 |
参考文献 | 第73-83页 |
攻读硕士期间已发表的论文 | 第83-85页 |
致谢 | 第85页 |