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硼基低维材料的制备和光电性能研究

摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第1章 绪论第11-22页
   ·纳米科技概述第11-15页
     ·纳米材料的概念和研究现状第11-12页
     ·纳米材料的基本特性第12-15页
   ·纳米材料的几种制备方法第15-22页
     ·气相沉积法第16-17页
     ·水热法第17-18页
     ·模板法第18-19页
     ·溶胶凝胶法第19-20页
     ·脉冲激光沉积法第20-22页
第2章 分析测试原理与方法第22-29页
   ·X射线衍射分析(XRD)第22页
   ·场发射扫描电子显微镜(FESEM)第22-23页
   ·透射电子显微镜(TEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)第23-25页
   ·拉曼光谱(Raman)分析第25-26页
   ·原子力显微镜(AFM)第26-27页
   ·X射线光电子能谱(XPS)第27-28页
   ·本论文用到的测试仪器第28-29页
第3章 超薄单晶硼纳米带的制备、表征及光电性能第29-45页
   ·引言第29-30页
   ·实验部分第30-31页
   ·结果与讨论第31-43页
     ·单晶超薄硼纳米带的形貌和结构第31-33页
     ·单晶超薄硼纳米带的场致发射(FE)性能第33-38页
     ·超薄硼纳米带的电子输运和光电性能第38-43页
     ·超薄硼纳米带器件的制备、表征第43页
   ·本章小结第43-45页
第4章 柔性基底上的CeB_6制备与表征第45-52页
   ·引言第45-46页
   ·实验部分第46页
   ·结果与讨论第46-51页
     ·CeB_6在SEM下的形貌第46-47页
     ·CeB_6在TEM下的形貌第47-48页
     ·CeB_6的XRD和RAMAN图谱第48-49页
     ·CeB_6的XPS图谱第49-50页
     ·不同条件下的CeB_6图像第50-51页
   ·本章小结第51-52页
第5章 碳化硼的制备与表征第52-59页
   ·引言第52-53页
   ·实验部分第53页
   ·结果与讨论第53-57页
     ·碳化硼的形貌和结构第53-55页
     ·碳化硼的XPS图谱第55-56页
     ·碳化硼的场发射和光电器件性能图第56-57页
   ·本章小结第57-59页
第6章 结语第59-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-71页
攻读学位期间获得与学位论文相关的科研成果目录第71页

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