| 摘要 | 第1-12页 |
| Abstract | 第12-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-35页 |
| 1. 前言 | 第14页 |
| 2. 半导体光催化技术研究现状 | 第14-25页 |
| ·半导体光催化的基本原理与特点 | 第14-16页 |
| ·半导体光催化应用 | 第16-18页 |
| ·半导体光催化活性影响因素 | 第18-20页 |
| ·提高半导体光催化活性主要方法 | 第20-23页 |
| ·BiVO_4和α-Fe_2O_3的光电催化性质 | 第23-25页 |
| 3. 半导体光催化技术目前存在的主要问题 | 第25-26页 |
| 4. 光电化学防腐蚀 | 第26-27页 |
| ·基本原理 | 第26-27页 |
| ·光电化学防腐蚀研究现状 | 第27页 |
| 5. 论文的选题依据、目的、意义与研究内容 | 第27-28页 |
| ·论文的选题依据、目的、意义 | 第27-28页 |
| ·研究内容 | 第28页 |
| 参考文献 | 第28-35页 |
| 第2章 研究方法 | 第35-44页 |
| 1. 化学试剂和仪器 | 第35-36页 |
| ·化学试剂、规格和生产厂家 | 第35-36页 |
| ·实验仪器 | 第36页 |
| 2. 测试方法 | 第36-43页 |
| ·样品表征 | 第36-38页 |
| ·电化学测试 | 第38-40页 |
| ·光电化学测试 | 第40-41页 |
| ·染料吸附相对表面积测试 | 第41-42页 |
| ·铜离子浓度分析 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |
| 第3章 电化学还原处理BiVO_4薄膜电极提高光电催化性能 | 第44-58页 |
| 1. 前言 | 第44页 |
| 2. 研究方法 | 第44-45页 |
| ·BiVO_4薄膜电极的制备 | 第44页 |
| ·电化学还原处理 | 第44-45页 |
| ·光电化学测试方法 | 第45页 |
| ·电极结构表征测试方法 | 第45页 |
| 3. 实验结果与讨论 | 第45-54页 |
| ·电极电还原处理前后的光电性能 | 第45-47页 |
| ·电还原处理对电极形貌、晶体结构和化学组成的影响 | 第47-50页 |
| ·光电化学活性提高机理 | 第50-54页 |
| 4. 本章结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 第4章 电沉积FeOOH提高α-Fe_2O_3光电催化活性 | 第58-71页 |
| 1. 前言 | 第58页 |
| 2. 实验方法 | 第58-59页 |
| ·电极制备 | 第58-59页 |
| ·电化学和光电化学测试 | 第59页 |
| 3. 实验结果与讨论 | 第59-68页 |
| ·电沉积FeOOH前后电极的光电化学性能 | 第59-63页 |
| ·电沉积FeOOH前后的电极形貌、晶体结构和元素组成 | 第63-64页 |
| ·光电性能提高机理 | 第64-68页 |
| 4. 本章结论 | 第68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 第5章 染料敏化TiO_2可见光光电化学保护Cu | 第71-79页 |
| 1. 前言 | 第71页 |
| 2. 实验方法 | 第71-73页 |
| ·电极制备 | 第71-72页 |
| ·光电化学测试 | 第72页 |
| ·铜离子浓度分析 | 第72-73页 |
| 3. 实验结果与讨论 | 第73-76页 |
| ·N719染料敏化TiO_2薄膜电极吸收光谱 | 第73页 |
| ·可见光照时N719染料敏化TiO_2薄膜电极的开路电位 | 第73-74页 |
| ·短路光电流与光电化学电池体系组成的关系 | 第74-75页 |
| ·N719染料敏化TiO_2薄膜电极可见光光电化学保护Cu | 第75-76页 |
| 4. 本章结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-79页 |
| 第6章 总结与展望 | 第79-80页 |
| 1. 总结 | 第79页 |
| 2. 工作展望 | 第79-80页 |
| 附录：硕士期间的科研成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
