摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
·引言 | 第10页 |
·金刚石结构与性质的概述 | 第10-17页 |
·金刚石的结构 | 第10-11页 |
·金刚石的性质 | 第11-17页 |
·金刚石薄膜的制备 | 第17-19页 |
·金刚石薄膜生长的基本条件 | 第18页 |
·纳米金刚石薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
·纳米金刚石薄膜(NCD)的研究进展 | 第19-22页 |
·微晶金刚石薄膜与纳米金刚石薄膜的区别 | 第19-21页 |
·纳米金刚石薄膜的性能与应用 | 第21-22页 |
·金刚石薄膜的掺杂 | 第22-24页 |
·金刚石薄膜的表征方法 | 第24-25页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第24页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第24页 |
·拉曼光谱(Raman) | 第24-25页 |
·X射线衍射仪(XRD) | 第25页 |
·高分辨率透射电镜(HRTEM) | 第25页 |
·问题的提出与本文研究内容 | 第25-28页 |
第二章 氧离子注入微晶金刚石薄膜微结构与光电性能研究 | 第28-43页 |
·引言 | 第28页 |
·实验 | 第28-31页 |
·CVD金刚石实验装置及衬底预处理 | 第28-30页 |
·微晶金刚石薄膜的制备 | 第30页 |
·退火及离子注入方案 | 第30-31页 |
·氧离子注入微晶金刚石薄膜的表征 | 第31-33页 |
·扫描电子显微镜(SEM)测试 | 第31-32页 |
·原子力显微镜(AFM)测试 | 第32页 |
·X射线衍射(XRD)测试 | 第32-33页 |
·金刚石薄膜的光电性能表征 | 第33-38页 |
·Hall效应测试 | 第33-35页 |
·变温两探针法电阻测试 | 第35-36页 |
·金刚石薄膜中Si-V发光性能的研究 | 第36-38页 |
·金刚石薄膜Raman光谱测试 | 第38-41页 |
·本章小结 | 第41-43页 |
第三章 硅离子注入纳米金刚石薄膜微结构与光电性能研究 | 第43-59页 |
·引言 | 第43页 |
·实验 | 第43-45页 |
·纳米金刚石薄膜的制备 | 第43-44页 |
·离子注入及退火方案 | 第44-45页 |
·硅离子注入纳米金刚石薄膜的表征 | 第45-57页 |
·硅离子注入纳米金刚石薄膜微结构表征 | 第45-54页 |
·光致发光(PL)测试 | 第54-56页 |
·Hall效应测试 | 第56页 |
·变温两探针法电阻测试 | 第56-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
第四章 硅氧离子共注入纳米金刚石薄膜微结构与光电性能研究 | 第59-67页 |
·引言 | 第59页 |
·实验 | 第59-61页 |
·纳米金刚石薄膜的制备 | 第59页 |
·离子注入及退火方案 | 第59-61页 |
·硅氧离子共注纳米金刚石薄膜表征 | 第61-66页 |
·硅氧离子共注纳米金刚石薄膜微结构表征 | 第61-63页 |
·光致发光(PL)测试 | 第63-64页 |
·Hall效应测试 | 第64-65页 |
·变温两探针法电阻测试 | 第65-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
第五章 结论 | 第67-70页 |
参考文献 | 第70-78页 |
本文创新点 | 第78-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第81页 |