首页--工业技术论文--一般工业技术论文--工程材料学论文--特种结构材料论文

离子注入金刚石薄膜的微结构与光电性能研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-8页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-28页
   ·引言第10页
   ·金刚石结构与性质的概述第10-17页
     ·金刚石的结构第10-11页
     ·金刚石的性质第11-17页
   ·金刚石薄膜的制备第17-19页
     ·金刚石薄膜生长的基本条件第18页
     ·纳米金刚石薄膜的制备方法第18-19页
   ·纳米金刚石薄膜(NCD)的研究进展第19-22页
     ·微晶金刚石薄膜与纳米金刚石薄膜的区别第19-21页
     ·纳米金刚石薄膜的性能与应用第21-22页
   ·金刚石薄膜的掺杂第22-24页
   ·金刚石薄膜的表征方法第24-25页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第24页
       ·原子力显微镜(AFM)第24页
     ·拉曼光谱(Raman)第24-25页
     ·X射线衍射仪(XRD)第25页
     ·高分辨率透射电镜(HRTEM)第25页
   ·问题的提出与本文研究内容第25-28页
第二章 氧离子注入微晶金刚石薄膜微结构与光电性能研究第28-43页
   ·引言第28页
   ·实验第28-31页
     ·CVD金刚石实验装置及衬底预处理第28-30页
     ·微晶金刚石薄膜的制备第30页
     ·退火及离子注入方案第30-31页
   ·氧离子注入微晶金刚石薄膜的表征第31-33页
     ·扫描电子显微镜(SEM)测试第31-32页
     ·原子力显微镜(AFM)测试第32页
     ·X射线衍射(XRD)测试第32-33页
   ·金刚石薄膜的光电性能表征第33-38页
     ·Hall效应测试第33-35页
     ·变温两探针法电阻测试第35-36页
     ·金刚石薄膜中Si-V发光性能的研究第36-38页
   ·金刚石薄膜Raman光谱测试第38-41页
   ·本章小结第41-43页
第三章 硅离子注入纳米金刚石薄膜微结构与光电性能研究第43-59页
   ·引言第43页
   ·实验第43-45页
     ·纳米金刚石薄膜的制备第43-44页
     ·离子注入及退火方案第44-45页
   ·硅离子注入纳米金刚石薄膜的表征第45-57页
     ·硅离子注入纳米金刚石薄膜微结构表征第45-54页
     ·光致发光(PL)测试第54-56页
     ·Hall效应测试第56页
     ·变温两探针法电阻测试第56-57页
   ·本章小结第57-59页
第四章 硅氧离子共注入纳米金刚石薄膜微结构与光电性能研究第59-67页
   ·引言第59页
   ·实验第59-61页
     ·纳米金刚石薄膜的制备第59页
     ·离子注入及退火方案第59-61页
   ·硅氧离子共注纳米金刚石薄膜表征第61-66页
     ·硅氧离子共注纳米金刚石薄膜微结构表征第61-63页
     ·光致发光(PL)测试第63-64页
     ·Hall效应测试第64-65页
     ·变温两探针法电阻测试第65-66页
   ·本章小结第66-67页
第五章 结论第67-70页
参考文献第70-78页
本文创新点第78-80页
致谢第80-81页
攻读学位期间发表的学术论文目录第81页

论文共81页,点击 下载论文
上一篇:电化学制备基于三苯胺和噻吩衍生物电致变色材料及其性能研究
下一篇:磁流变液挤—剪特性研究及其在离合器中的仿真应用