| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-12页 |
| ·研究背景 | 第7-9页 |
| ·研究的目标及其意义 | 第9-10页 |
| ·研究的主要内容及方法 | 第10-12页 |
| 2 技术简介及应用 | 第12-21页 |
| ·XPS和Ar~+刻蚀技术简介 | 第12-18页 |
| ·XPS和Ar~+刻蚀技术在材料研究中的应用 | 第18-21页 |
| 3 Ar~+对氧化铜的刻蚀还原作用的XPS研究 | 第21-28页 |
| ·XRD及XPS测试对氧化铜化学组分的判定 | 第21-22页 |
| ·Ar~+刻蚀氧化铜的实验结果及分析 | 第22-28页 |
| 4 Ar~+刻蚀技术对金属氧化物的刻蚀作用研究 | 第28-51页 |
| ·金属氧化物的XRD物相结构表征 | 第28-31页 |
| ·XPS表征及Ar~+刻蚀 | 第31-47页 |
| ·总结分析Ar~+刻蚀金属氧化物的还原原因 | 第47-51页 |
| 5 结论与展望 | 第51-53页 |
| ·全文总结 | 第51页 |
| ·工作展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 后记 | 第59页 |