| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·石榴石薄膜材料的研究进展 | 第10-14页 |
| ·铋掺杂石榴石薄膜材料 | 第11-13页 |
| ·铈掺杂石榴石薄膜材料 | 第13-14页 |
| ·光开关的发展现状 | 第14-15页 |
| ·磁光开关的国内外研究现状 | 第15-17页 |
| ·本论文的主要研究工作 | 第17-19页 |
| 第二章 铋掺杂石榴石薄膜的制备及性能分析 | 第19-34页 |
| ·射频磁控溅射法简介 | 第19-20页 |
| ·固相法制备靶材 | 第20-22页 |
| ·射频磁控溅射工艺及热处理 | 第22-24页 |
| ·Bi:YIG 薄膜性能分析 | 第24-33页 |
| ·Ce:YIG 薄膜膜厚测试 | 第24-25页 |
| ·薄膜成相分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜表面形貌测试分析 | 第26-27页 |
| ·薄膜磁性能测试分析 | 第27-31页 |
| ·薄膜磁光性能测试分析 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 射频磁控溅射法制备 Ce:YIG 薄膜及性能分析 | 第34-50页 |
| ·固相法制备 Ce:YIG 靶材和溅射工艺参数 | 第34-36页 |
| ·Ce:YIG 薄膜性能分析 | 第36-49页 |
| ·Ce:YIG 薄膜膜厚测试 | 第36页 |
| ·Ce:YIG 薄膜成相分析 | 第36-37页 |
| ·Ce:YIG 薄膜表面形貌分析 | 第37-39页 |
| ·Ce:YIG 薄膜磁性能分析 | 第39-44页 |
| ·Ce:YIG 薄膜 XPS 分析 | 第44-47页 |
| ·Ce:YIG 薄膜磁光性能 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 液相外延法制备 BiLuIG 薄膜及性能分析 | 第50-58页 |
| ·液相外延工艺简介 | 第50-51页 |
| ·助熔剂、基片的选择与工艺参数 | 第51-53页 |
| ·外延薄膜的性能分析 | 第53-57页 |
| ·薄膜微观结构分析 | 第53-55页 |
| ·薄膜磁性能 | 第55-56页 |
| ·薄膜磁光性能 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 磁光开关的设计制作 | 第58-67页 |
| ·磁光材料的选取 | 第58-59页 |
| ·磁光开关的整体结构 | 第59-60页 |
| ·磁场的计算与设计制作 | 第60-62页 |
| ·电流脉冲发生器的设计制作 | 第62-64页 |
| ·测试系统及初步测试结果 | 第64-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第六章 结论 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第71-72页 |