场发射DLC纳米尖锥阵列的密度调控

中文摘要	第1-4页
Abstract	第4-6页
目录	第6-8页
第一章 绪论	第8-29页
·AAO模板技术的发展和应用简介	第8-13页
·AAO模板技术的发展	第8-9页
·阳极氧化铝模板的应用	第9-13页
·AAO模板在场发射方面的应用	第13-21页
·场发射显示技术的发展	第13-16页
·AAO模板制备场发射材料	第16-19页
·AAO模板在制备DLC纳米尖锥阵列中存在的问题	第19-21页
·本论文的选题依据和主要研究内容	第21-22页
·选题依据	第21-22页
·研究内容	第22页
参考文献	第22-29页
第二章 实验方法	第29-36页
·多孔阳极氧化铝模板制备工艺简介	第29-32页
·影响模板生长的试验参数	第29-31页
·铝阳极氧化膜的制备工艺	第31-32页
·磁过滤阴极弧等离子体沉积设备简介	第32-34页
·磁过滤阴极弧等离子体技术	第32-33页
·磁过滤阴极弧等离子体沉积设备	第33-34页
参考文献	第34-36页
第三章 氧化铝模板的密度调控及实验研究	第36-54页
·AAO模板密度调控理论分析	第36-37页
·实验设计	第37-38页
·AAO模板孔密度调控	第38-44页
·实验操作步骤及装置	第38-39页
·样品表征及分析	第39-44页
·AAO模板的规则性调控	第44-48页
·实验操作步骤	第44-45页
·样品表征及分析	第45-48页
·密度及规则性调控规律总结及生长机理研究	第48-51页
·AAO模板密度及规则性调控规律	第48-50页
·AAO模板生长机理研究	第50-51页
·本章小结	第51-52页
参考文献	第52-54页
第四章 V型AAO模板及DLC纳米尖锥阵列的制备	第54-61页
·DLC纳米尖锥阵列的制备流程	第54页
·制备V型孔结构的AAO模板	第54-57页
·实验条件	第54-55页
·样品表征及分析	第55-57页
·沉积DLC纳米尖锥阵列	第57-60页
·本章小结	第60-61页
第五章 结论与展望	第61-62页
硕士期间的研究成果	第62-63页
致谢	第63页