石墨烯的制备、表征及电化学性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-27页 |
| ·石墨烯的独特结构和优良特性 | 第8-9页 |
| ·石墨烯的独特结构 | 第8页 |
| ·石墨烯的优良特性 | 第8-9页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第9-12页 |
| ·微机械剥离法 | 第9页 |
| ·Si 基质外延生长法 | 第9页 |
| ·化学气相沉积法（CVD 法） | 第9-10页 |
| ·石墨的氧化还原法 | 第10-12页 |
| ·石墨烯的应用前景 | 第12-15页 |
| ·传感器 | 第12-14页 |
| ·电化学催化 | 第14页 |
| ·电化学发光 | 第14页 |
| ·能量存储装置 | 第14-15页 |
| ·场效应晶体管 | 第15页 |
| ·制备方法对石墨烯电化学性能的影响 | 第15-21页 |
| ·化学还原氧化石墨法 | 第15-18页 |
| ·热剥离氧化石墨法 | 第18-20页 |
| ·其他方法 | 第20-21页 |
| ·石墨烯基材料在超级电容器中的应用研究进展 | 第21-26页 |
| ·纯石墨烯超级电容器 | 第22-23页 |
| ·石墨烯复合材料超级电容器 | 第23-26页 |
| ·本论文研究工作及意义 | 第26-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-35页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第27-28页 |
| ·实验试剂 | 第27-28页 |
| ·实验仪器 | 第28页 |
| ·石墨烯及其电极的制备 | 第28-30页 |
| ·氧化石墨的制备 | 第28-29页 |
| ·石墨烯的制备 | 第29页 |
| ·氧化还原法制备石墨烯的机理 | 第29-30页 |
| ·石墨烯电极的制备 | 第30页 |
| ·材料测试表征方法 | 第30-33页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第30-31页 |
| ·红外光谱分析（FT-IR）[] | 第31-32页 |
| ·拉曼光谱分析（Raman） | 第32-33页 |
| ·场发射扫描电子显微镜（FESEM） | 第33页 |
| ·场发射透射电子显微镜（HRTEM） | 第33页 |
| ·电化学性能测试方法 | 第33-35页 |
| 第三章 氧化石墨制备的影响因素 | 第35-47页 |
| ·石墨原料粒径大小及均匀性的影响 | 第35-38页 |
| ·氧化剂用量的影响 | 第38-40页 |
| ·反应温度的影响 | 第40-43页 |
| ·其他因素的影响 | 第43-45页 |
| ·FESEM 的分析结果 | 第45页 |
| ·石墨的氧化程度的分析 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 第四章 石墨烯的表征及电化学性能分析与讨论 | 第47-61页 |
| ·水合肼还原制备石墨烯 | 第47-53页 |
| ·XRD 表征 | 第47-48页 |
| ·FI-IR 表征 | 第48-49页 |
| ·Raman 光谱表征 | 第49页 |
| ·FESEM 和 TEM 分析 | 第49-50页 |
| ·电化学性能分析 | 第50-53页 |
| ·水合肼还原制备石墨烯影响的因素 | 第53-56页 |
| ·还原剂用量的影响 | 第54-55页 |
| ·还原时间的影响 | 第55页 |
| ·还原温度的影响 | 第55-56页 |
| ·低温热膨胀制备石墨烯 | 第56-61页 |
| ·XRD 表征 | 第56-57页 |
| ·FT-IR 表征 | 第57-58页 |
| ·Raman 光谱 | 第58-59页 |
| ·FESEM 分析 | 第59-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-70页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
