| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·镁及镁合金的应用现状及发展前景 | 第9-11页 |
| ·镁合金应用面临的问题 | 第11-12页 |
| ·镁合金的腐蚀反应 | 第11页 |
| ·镁合金的主要腐蚀形态 | 第11-12页 |
| ·镁合金的防腐蚀技术 | 第12-16页 |
| ·阳极氧化处理 | 第12-13页 |
| ·气相沉积 | 第13页 |
| ·电化学镀 | 第13-14页 |
| ·化学转化膜 | 第14-15页 |
| ·有机物涂层 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化处理 | 第16-21页 |
| ·微弧氧化机理 | 第16-18页 |
| ·微弧氧化现象 | 第18-19页 |
| ·微弧氧化的特点 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化的应用现状 | 第20-21页 |
| ·本课题的研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 试验条件和方案 | 第22-27页 |
| ·试验条件 | 第22-24页 |
| ·试样 | 第24页 |
| ·试验过程 | 第24-25页 |
| ·试验方案 | 第25-27页 |
| 第三章 硅酸盐体系电解液的衰变规律研究 | 第27-30页 |
| ·初始电导率对电解液衰变失效的影响 | 第27-28页 |
| ·陶瓷层厚度、表面粗糙度及增重随处理面积的变化 | 第28-30页 |
| 第四章 电解液优化 | 第30-44页 |
| ·铝酸钠体系电解液中工艺参数的优化 | 第30-34页 |
| ·处理时间和电流密度的参数优化 | 第30-32页 |
| ·频率和占空比的参数优化 | 第32-34页 |
| ·磷酸二氢钠体系电解液中工艺参数的优化 | 第34-37页 |
| ·处理时间和电流密度的参数优化 | 第35-36页 |
| ·频率和占空比的参数优化 | 第36-37页 |
| ·微弧氧化陶瓷层耐蚀性比较 | 第37-44页 |
| ·NaCl中性盐雾试验 | 第37-42页 |
| ·电化学分析 | 第42-44页 |
| 第五章 微弧氧化陶瓷层生长规律 | 第44-52页 |
| ·工艺参数对陶瓷层厚度及表面粗糙度的影响 | 第44-49页 |
| ·处理时间的影响 | 第44-45页 |
| ·电流密度的影响 | 第45-46页 |
| ·频率的影响 | 第46-47页 |
| ·占空比的影响 | 第47-49页 |
| ·能耗分析 | 第49-50页 |
| ·火花形态的变化 | 第50-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 问题与展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录一 铝酸钠体系电解液处理试样的Tafel斜率测试图 | 第58-62页 |
| 附录二 铝酸钠体系电解液处理试样的I/E曲线图 | 第62-65页 |
| 附录三 磷酸二氢钠体系电解液处理试样的Tafel斜率测试图 | 第65-69页 |
| 附录四 磷酸二氢钠体系电解液处理试样的I/E曲线图 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
