SOI SiGe HBT结构与集电区模型研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
第一章 绪论 | 第7-11页 |
·引言 | 第7-8页 |
·国内外研究现状 | 第8-10页 |
·应变SiGe技术 | 第8-9页 |
·SOI基SiGeHBT | 第9-10页 |
·本论文研究内容和章节安排 | 第10-11页 |
第二章 SiGe材料基本物理属性分析 | 第11-21页 |
·Si1-xGex材料基本属性 | 第11-17页 |
·SiGe晶格结构与应力分析 | 第12-13页 |
·SiGe能带结构 | 第13-15页 |
·应变层临界厚度 | 第15-16页 |
·应变SiGe其它特性参数 | 第16-17页 |
·SOI技术 | 第17-19页 |
·本章小结 | 第19-21页 |
第三章 SOISiGeHBT性能分析与结构设计 | 第21-41页 |
·SOISiGeHBT性能分析 | 第21-28页 |
·SiGeHBT直流特性 | 第23-25页 |
·SiGeHBT交流特性 | 第25-28页 |
·SOISiGeHBT结构设计 | 第28-34页 |
·发射区结构参数设计 | 第29-30页 |
·基区结构参数设计 | 第30-32页 |
·集电区结构参数设计 | 第32-34页 |
·结构仿真分析 | 第34-37页 |
·SOISiGeHBT实现过程 | 第37-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第四章 SOISiGeHBT集电结模型研究 | 第41-63页 |
·集电结空间电荷区模型 | 第41-49页 |
·集电结纵向空间电荷区模型 | 第42-45页 |
·集电结横向空间电荷区模型 | 第45-46页 |
·集电结空间电荷区结果分析 | 第46-49页 |
·SOISiGeHBT集电结耗尽层电容模型 | 第49-59页 |
·集电结理想耗尽层电容模型 | 第49-51页 |
·集电结理想耗尽层电容讨论 | 第51-54页 |
·集电结实际耗尽层电容模型 | 第54-56页 |
·集电结实际耗尽层电容讨论 | 第56-59页 |
·集电区全耗尽和部分耗尽情况下器件性能 | 第59-61页 |
·集电结空间电荷区演变 | 第59页 |
·耗尽情况与器件性能 | 第59-61页 |
·本章小结 | 第61-63页 |
第五章 总结和展望 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |