摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-31页 |
·引言 | 第9-10页 |
·课题研究的现状和意义 | 第10-29页 |
·纳米尺度材料 | 第10页 |
·纳米复合材料 | 第10-13页 |
·山梨醇简介 | 第13-14页 |
·超细贵金属催化剂 | 第14-15页 |
·担载型超细贵金属催化剂 | 第15-16页 |
·超临界流体的概念 | 第16-17页 |
·超临界流体的特性 | 第17-19页 |
·超临界流体的选择 | 第19-20页 |
·超临界流体沉积技术的原理 | 第20-21页 |
·纳米复合材料制备方法 | 第21-23页 |
·超临界流体沉积技术(SCFD) | 第23页 |
·SCFD 技术在制备纳米复合材料方面的优点 | 第23-24页 |
·超临界流体沉积技术(SCFD)研究进展 | 第24-29页 |
·在基材表面沉积金属薄膜 | 第24-25页 |
·在基材表面或孔道内沉积金属纳米颗粒 | 第25-28页 |
·超临界模板技术制备多孔材料 | 第28-29页 |
·课题研究的主要内容 | 第29页 |
·课题创新点 | 第29-31页 |
第二章 实验部分 | 第31-35页 |
·主要试剂 | 第31页 |
·主要实验仪器 | 第31页 |
·催化剂的制备 | 第31-33页 |
·超临界状态下 H_2还原制备催化剂 | 第31-32页 |
·超临界状态下 KBH_4还原制备催化剂 | 第32页 |
·传统干法还原制备催化剂 | 第32-33页 |
·传统湿法还原制备催化剂 | 第33页 |
·催化剂活性评价 | 第33页 |
·催化剂的表征 | 第33-35页 |
·催化剂的 SEM 分析 | 第33页 |
·催化剂的 XRD 分析 | 第33-34页 |
·催化剂的 TEM 分析 | 第34页 |
·催化剂的 XPS 分析 | 第34页 |
·催化剂的 IR 分析 | 第34页 |
·催化剂的 DSC 分析 | 第34页 |
·催化剂的 BET 分析 | 第34-35页 |
第三章 超临界流体中 H_2还原条件下制备催化剂的研究 | 第35-44页 |
·助溶剂的选择对催化剂活性的影响 | 第35-36页 |
·助溶剂用量对催化剂活性的影响 | 第36-38页 |
·超临界 CO_2的压力对催化剂活性的影响 | 第38-39页 |
·超临界 CO_2的温度对催化剂活性的影响 | 第39-40页 |
·传统干法还原制备催化剂的比较 | 第40页 |
·催化剂的 XRD 分析 | 第40-41页 |
·催化剂的 XPS 分析 | 第41-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
第四章 超临界流体中 KBH_4还原条件下制备催化剂的研究 | 第44-54页 |
·正交实验分析 | 第44-46页 |
·传统湿法还原制备催化剂的比较 | 第46-47页 |
·催化剂的扫描电镜(SEM)分析 | 第47-48页 |
·催化剂的透射电镜(TEM)分析 | 第48页 |
·催化剂的红外光谱分析 | 第48-49页 |
·催化剂的 DSC 分析 | 第49-50页 |
·催化剂的 BET 分析 | 第50-53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
第五章 结论 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
个人简历 | 第62页 |