环保型三价铬镀铬工艺及铬层性质初探
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-9页 |
| 1 前言 | 第9-16页 |
| 1．1 研究三价铬镀铬的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1．2 三价铬镀铬研究现状 | 第10-14页 |
| 1．2．1 三价铬镀铬的发展 | 第10-13页 |
| 1．2．2 三价铬镀铬的工艺特点 | 第13-14页 |
| 1．3 本文的研究内容 | 第14-16页 |
| 2 实验部分 | 第16-27页 |
| 2．1 实验原理 | 第16-18页 |
| 2．1．1 三价铬镀铬的电化学基础 | 第16页 |
| 2．1．2 镀液的主要成分及其作用 | 第16-18页 |
| 2．2 三价铬镀铬的工艺流程 | 第18-22页 |
| 2．2．1 工艺流程图 | 第18页 |
| 2．2．2 前处理 | 第18-19页 |
| 2．2．3 镀铬底层—光亮镍 | 第19-21页 |
| 2．2．4 铬源的制备 | 第21-22页 |
| 2．2．5 镀铬液的配制 | 第22页 |
| 2．3 三价铬电镀工艺条件优化 | 第22-24页 |
| 2．3．1 赫尔槽试验 | 第22-23页 |
| 2．3．2 等电流密度实验 | 第23-24页 |
| 2．4 镀层性能测试 | 第24-25页 |
| 2．4．1 镀层的外观检验 | 第24页 |
| 2．4．2 镀层厚度检验 | 第24页 |
| 2．4．3 镀层的耐蚀性检验 | 第24页 |
| 2．4．4 镀层孔隙率检验 | 第24-25页 |
| 2．4．5 镀层的硬度检测 | 第25页 |
| 2．4．6 镀层附着力检测 | 第25页 |
| 2．5 镀层的X射线衍射（XRD）分析 | 第25页 |
| 2．6 镀层的X射线荧光光谱（XRF）分析 | 第25-26页 |
| 2．7 原子力显微镜分析 | 第26-27页 |
| 3 结果与讨论 | 第27-56页 |
| 3．1 铬源的制备 | 第27-30页 |
| 3．1．1 铬酐还原的工艺条件研究 | 第27-29页 |
| 3．1．2 铬酐还原机理 | 第29-30页 |
| 3．1．3 小结 | 第30页 |
| 3．2 电镀溶液组成对铬层性质的影响 | 第30-35页 |
| 3．2．1 导电盐组成的确定 | 第30-32页 |
| 3．2．2 稀土元素对镀层性能的影响 | 第32页 |
| 3．2．3 镀铬液配方的优化 | 第32-35页 |
| 3．3 电镀工艺条件对镀层性能的影响 | 第35-44页 |
| 3．3．1 单因素素实验 | 第35-41页 |
| 3．3．2 工艺优化正交实验 | 第41-43页 |
| 3．3．3 工艺条件小结 | 第43-44页 |
| 3．4 铬层物理化学性质表征 | 第44-54页 |
| 3．4．1 铬层的元素组成分析 | 第44-46页 |
| 3．4．2 铬层的晶粒尺寸分析 | 第46-53页 |
| 3．4．3 铬层的晶体结构分析 | 第53-54页 |
| 3．5 镀层性能测试 | 第54-55页 |
| 3．5．1 外观 | 第54页 |
| 3．5．2 孔隙率 | 第54页 |
| 3．5．3 盐雾实验 | 第54-55页 |
| 3．5．4 三价铬性能与六价铬性能对比 | 第55页 |
| 3．6 镀层的性能评价标准 | 第55-56页 |
| 4 结论与展望 | 第56-58页 |
| 4．1 结论 | 第56-57页 |
| 4．2 展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
