| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·强流脉冲离子束的发展历史 | 第9页 |
| ·强流脉冲离子束的产生 | 第9-13页 |
| ·产生装置 | 第9-11页 |
| ·工作原理 | 第11-12页 |
| ·工艺参数 | 第12-13页 |
| ·强流脉冲离子束在技术上的应用 | 第13-14页 |
| ·强流脉冲离子束与其他脉冲源的比较 | 第14-15页 |
| 2 强流脉冲离子束的研究现状 | 第15-17页 |
| ·强流脉冲离子束国外研究现状 | 第15页 |
| ·强流脉冲离子束国内研究现状 | 第15页 |
| ·本文的主要内容及安排 | 第15-17页 |
| 3 高能脉冲离子束与表面的相互作用 | 第17-31页 |
| ·非晶靶中的射程分布理论 | 第17-22页 |
| ·能量损失与射程 | 第18-20页 |
| ·核阻止本领S_n(E_1)的理论计算 | 第20-21页 |
| ·电子阻止本领S_e(E_1)的理论计算 | 第21-22页 |
| ·化合物的截止能 | 第22页 |
| ·入射离子在非晶靶中的浓度分布理论 | 第22页 |
| ·高能离子注入的损伤和退火 | 第22-25页 |
| ·晶格损伤的一般概念 | 第23页 |
| ·二次缺陷或剩余缺陷 | 第23-24页 |
| ·原子离位损伤的物理模型 | 第24-25页 |
| ·二体弹性碰撞理论 | 第25-31页 |
| ·实验室坐标系 | 第25-26页 |
| ·质心坐标系 | 第26-28页 |
| ·离子输运的Monte Carlo模拟以及TRIM程序 | 第28-31页 |
| 4 强流脉冲离子束在材料中的能量分布 | 第31-38页 |
| ·一维束流模型的建立 | 第31-33页 |
| ·模拟结果与讨论 | 第33-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 5 强流脉冲离子束辐照后，材料内部的温度分布 | 第38-46页 |
| ·一维热力学模型 | 第39-40页 |
| ·差分格式 | 第40页 |
| ·模拟结果讨论 | 第40-42页 |
| ·不同的MID材料产生的辐照效果比较 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 6 强流脉冲离子束辐照GaAs后，样品形貌分析 | 第46-48页 |
| 7 本文结论与展望 | 第48-50页 |
| ·本文结论 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |