| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 研究背景和文献综述 | 第12-48页 |
| ·原子氧自由基阴离子(O~-)的特性及产生方法 | 第12-17页 |
| ·O~-的特性和化学反应性 | 第12-13页 |
| ·O~-的产生方法 | 第13-17页 |
| ·微生物失活技术现状 | 第17-23页 |
| ·研究背景 | 第17-18页 |
| ·非热失活技术现状 | 第18-23页 |
| ·活性氧对生物分子的作用 | 第23-27页 |
| ·活性氧种类和性质 | 第23-24页 |
| ·活性氧对生物大分子的损伤作用 | 第24-27页 |
| ·聚合物表面改性技术现状 | 第27-34页 |
| ·聚合物改性技术概述 | 第27-29页 |
| ·难粘聚合物表面改性技术现状 | 第29-34页 |
| ·基于半导体硅片制备氧化硅薄膜技术概述 | 第34-37页 |
| ·氧化硅薄膜的传统制备方法 | 第34-37页 |
| ·检测氧化硅质量的方法 | 第37页 |
| ·本文的新进展 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-48页 |
| 第二章 气相原子氧自由基阴离子诱导的微生物失活效果和机理研究 | 第48-66页 |
| ·引言 | 第48-49页 |
| ·实验材料和方法 | 第49-55页 |
| ·材料和试剂 | 第49-50页 |
| ·实验仪器 | 第50-51页 |
| ·实验方法与装置 | 第51-55页 |
| ·O~-束诱导的微生物的失活效果 | 第55-61页 |
| ·O~-发生器的发射特性 | 第55-56页 |
| ·O~-诱导的大肠杆菌的失活效果 | 第56-60页 |
| ·O~-诱导的几种微生物失活效果比较 | 第60-61页 |
| ·O~-束诱导的大肠杆菌的失活机理探讨 | 第61-63页 |
| ·O~-处理大肠杆菌前后扫描电镜观察 | 第61页 |
| ·O~-与大肠杆菌反应过程中四极质谱和时间飞行质谱观察 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 第三章 O~-水溶液中大肠杆菌失活效果研究与失活机理探讨 | 第66-84页 |
| ·引言 | 第66-67页 |
| ·实验材料和方法 | 第67-70页 |
| ·材料和试剂 | 第67页 |
| ·实验仪器 | 第67页 |
| ·实验方法与装置 | 第67-70页 |
| ·O~-水溶液的特性 | 第70-74页 |
| ·O~-水溶液中的活性物种 | 第70-73页 |
| ·活性物种的形成机理 | 第73-74页 |
| ·O~-水溶液中大肠杆菌的失活效果 | 第74-76页 |
| ·O~-水溶液中大肠杆菌的失活机理探讨 | 第76-80页 |
| ·O~-水溶液处理大肠杆菌前后扫描电镜观察 | 第76-77页 |
| ·O~-水溶液处理大肠杆菌前后核酸的测量 | 第77-78页 |
| ·O~-水溶液诱导的脂质过氧化 | 第78-80页 |
| ·小结 | 第80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 第四章 O~-水溶液对聚苯乙烯材料表面改性研究 | 第84-102页 |
| ·引言 | 第84-85页 |
| ·材料及仪器设备 | 第85页 |
| ·聚苯乙烯的表面改性处理及分析方法 | 第85-87页 |
| ·聚苯乙烯的表面改性处理 | 第85-86页 |
| ·聚苯乙烯表面分析方法 | 第86-87页 |
| ·结果与讨论 | 第87-98页 |
| ·O~-水溶液对聚苯乙烯润湿性能的影响 | 第87-89页 |
| ·O~-水溶液对聚苯乙烯形貌的影响 | 第89-91页 |
| ·O~-水溶液对聚苯乙烯表面化学键的影响 | 第91-98页 |
| ·小结 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-102页 |
| 第五章 O~-水溶液对聚四氟乙烯材料表面改性的研究 | 第102-116页 |
| ·引言 | 第102-103页 |
| ·材料与表面改性处理 | 第103-104页 |
| ·聚四氟乙烯改性后表面分析 | 第104页 |
| ·结果与讨论 | 第104-112页 |
| ·O~-水溶液对聚四氟乙烯表面化学键的影响 | 第104-110页 |
| ·O~-水溶液对聚四氟乙烯形貌的影响 | 第110-111页 |
| ·O~-水溶液对聚四氟乙烯润湿性能的影响 | 第111-112页 |
| ·小结 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-116页 |
| 第六章 原子氧自由基阴离子的硅片表面氧化研究 | 第116-128页 |
| ·引言 | 第116页 |
| ·实验材料和方法 | 第116-118页 |
| ·实验材料 | 第116-117页 |
| ·实验装置 | 第117-118页 |
| ·氧化硅薄膜的组分和性能表征 | 第118页 |
| ·结果与讨论 | 第118-125页 |
| ·O~-束的硅表面氧化 | 第118-120页 |
| ·氧化后硅片表面的X射线光电子能谱分析 | 第120-123页 |
| ·氧化层的电学性质 | 第123-125页 |
| ·小结 | 第125页 |
| 参考文献 | 第125-128页 |
| 总结与展望 | 第128-130页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文目录 | 第130-132页 |
| 致谢 | 第132页 |
