| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 前言 | 第7-24页 |
| ·铪和钨 | 第7-9页 |
| ·铪和铪的同位素 | 第7-8页 |
| ·钨和钨的同位素 | 第8-9页 |
| ·铪的分离方法 | 第9-10页 |
| ·Hf同位素的测量 | 第10-11页 |
| ·~(182)Hf/~(180)Hf的测量 | 第11-14页 |
| ·~(182)Hf及其应用 | 第11-12页 |
| ·~(182)Hf/~(180)Hf测量的国内外现状 | 第12-14页 |
| ·MC-ICP-MS测量技术 | 第14-22页 |
| ·ICP-MS概述 | 第14-15页 |
| ·Isoprobe型MC-ICP-MS的结构 | 第15-17页 |
| ·MC-ICP-MS干扰 | 第17-20页 |
| ·质谱干扰 | 第17-19页 |
| ·非质谱干扰 | 第19-20页 |
| ·强峰拖尾 | 第20-21页 |
| ·质量歧视效应 | 第21-22页 |
| ·本研究工作内容 | 第22-24页 |
| 第2章 样品分析与实验方案设计 | 第24-29页 |
| ·样品分析 | 第24-26页 |
| ·实验方案设计 | 第26-29页 |
| 第3章 HF、W化学分离 | 第29-37页 |
| ·实验设备 | 第29页 |
| ·试剂 | 第29-30页 |
| ·实验 | 第30-34页 |
| ·样品的溶解 | 第30-31页 |
| ·阴离子交换树脂柱的处理 | 第31-33页 |
| ·Hf、W的化学分离 | 第33页 |
| ·Dowex 1×8阴离子树脂中钨含量的分析 | 第33页 |
| ·Dowex 1×8阴离子树脂中钨的去除 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-37页 |
| 第4章 ~(182)HF/~(180)HF的测量 | 第37-66页 |
| ·实验设备 | 第37-38页 |
| ·实验 | 第38-40页 |
| ·接收器的排列 | 第38-39页 |
| ·MC-ICP-MS操作参数优化 | 第39页 |
| ·MC-ICP-MS干扰 | 第39页 |
| ·质谱干扰 | 第39页 |
| ·非质谱干扰 | 第39页 |
| ·质量歧视效应 | 第39-40页 |
| ·结果与讨论 | 第40-66页 |
| ·MC-ICP-MS测量~(182)Hf/~(180)Hf操作参数优化 | 第40-45页 |
| ·雾化气流速 | 第40-41页 |
| ·炬管轴向位置 | 第41-42页 |
| ·入射功率 | 第42-43页 |
| ·离子提取模式 | 第43-44页 |
| ·碰撞气流速 | 第44-45页 |
| ·MC-ICP-MS测量~(182)Hf/~(180)Hf的干扰分析 | 第45-50页 |
| ·质谱干扰 | 第45-46页 |
| ·非质谱干扰 | 第46-50页 |
| ·~(182)Hf/~(180)Hf测量结果的校正 | 第50-54页 |
| ·单位质量歧视因子β校正 | 第51-53页 |
| ·接收器效率差校正 | 第53-54页 |
| ·同量异位素~(182)W的扣除 | 第54-58页 |
| ·测量不确定度评定 | 第58-66页 |
| 第5章 结论与建议 | 第66-68页 |
| ·结论 | 第66页 |
| ·对今后工作的建议 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
