荷电镶嵌膜制备新工艺及性能表征
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 前言 | 第10-17页 |
| ·膜分离技术简介 | 第10-13页 |
| ·膜分离技术发展简史及发展前景 | 第10-11页 |
| ·膜与膜分离过程 | 第11-12页 |
| ·膜分离技术特点 | 第12-13页 |
| ·荷电镶嵌膜 | 第13-16页 |
| ·荷电镶嵌膜的分离原理 | 第13-14页 |
| ·荷电镶嵌膜制备的研究进展 | 第14-15页 |
| ·荷电镶嵌膜的应用及发展前景 | 第15-16页 |
| ·课题提出及意义 | 第16-17页 |
| 2 基膜的制备与表征 | 第17-28页 |
| ·基膜的制备原理 | 第17-20页 |
| ·相转化成膜过程机理 | 第17-18页 |
| ·膜材料的选择 | 第18页 |
| ·溶剂和非溶剂的选择 | 第18-19页 |
| ·添加剂的选择 | 第19-20页 |
| ·基膜的制备步骤 | 第20页 |
| ·聚醚砜超滤膜的表征 | 第20-23页 |
| ·膜分离性能的表征 | 第20-21页 |
| ·表面接触角的测定 | 第21页 |
| ·聚乙烯醇(PVA)浓度测定 | 第21-23页 |
| ·实验药品与仪器 | 第23页 |
| ·基膜制备工艺条件的正交设计 | 第23-26页 |
| ·正交实验因素及水平 | 第23-24页 |
| ·实验结果分析 | 第24-25页 |
| ·验证实验 | 第25页 |
| ·基膜表面接触角的测定 | 第25-26页 |
| ·基膜制备的单因素实验 | 第26-28页 |
| 3 荷电镶嵌膜的制备与表征 | 第28-47页 |
| ·荷电镶嵌膜的制备原理 | 第28-30页 |
| ·界面聚合原理 | 第28页 |
| ·聚合单体和溶剂的选择 | 第28-30页 |
| ·荷电镶嵌膜的制备步骤 | 第30-31页 |
| ·界面聚合步骤 | 第30页 |
| ·界面聚合装置 | 第30-31页 |
| ·荷电镶嵌膜的表征 | 第31页 |
| ·分析方法 | 第31-33页 |
| ·无机盐浓度的测定 | 第31页 |
| ·聚乙二醇(PEG)浓度的测定 | 第31-32页 |
| ·活性黄 X-RG浓度测定 | 第32-33页 |
| ·实验材料与设备 | 第33-34页 |
| ·实验药品 | 第33-34页 |
| ·实验仪器 | 第34页 |
| ·实验设计与数据处理 | 第34页 |
| ·荷电镶嵌膜制备的均匀设计 | 第34-41页 |
| ·荷电镶嵌膜的探索实验 | 第34-35页 |
| ·均匀设计实验 | 第35-36页 |
| ·均匀设计因素的选定 | 第36-37页 |
| ·均匀设计实验结果 | 第37-38页 |
| ·均匀设计实验结果的定性分析 | 第38页 |
| ·荷电镶嵌膜实验回归方程和参数估计 | 第38-39页 |
| ·优化条件的确定 | 第39-40页 |
| ·优化荷电镶嵌膜的分离性能 | 第40页 |
| ·荷电镶嵌膜表面接触角的测定 | 第40-41页 |
| ·操作条件对荷电镶嵌膜分离性能的影响 | 第41-43页 |
| ·压力的影响 | 第41-42页 |
| ·原料液浓度的影响 | 第42-43页 |
| ·荷电镶嵌膜对混合体系的分离 | 第43-44页 |
| ·膜结构参数的估算与测定 | 第44-47页 |
| 4 结论 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 附录 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第53页 |
