| 缩略语 | 第1-9页 |
| 表目录 | 第9-10页 |
| 图目录 | 第10-12页 |
| 摘要 | 第12-14页 |
| ABSTRACT | 第14-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-53页 |
| ·化学传感器气敏膜的研究背景 | 第16-21页 |
| ·敏感膜材料 | 第16-18页 |
| ·敏感膜的制备方法及其分类 | 第18-21页 |
| ·聚苯胺及薄膜的研究进展 | 第21-34页 |
| ·聚苯胺的结构与特性 | 第21-28页 |
| ·聚苯胺复合薄膜的制备方法 | 第28-30页 |
| ·聚苯胺薄膜应用研究 | 第30-34页 |
| ·LBL自组装膜制备技术进展 | 第34-40页 |
| ·LBL-SA成膜机理 | 第34-36页 |
| ·LBL-SA成膜影响因素 | 第36-39页 |
| ·成膜特点及应用前景 | 第39-40页 |
| ·聚苯胺敏感薄膜研究中存在的问题 | 第40-42页 |
| ·选题依据和研究内容 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-53页 |
| 第二章 原位聚合聚苯胺LBL-SA敏感膜制备过程设计与研究方法 | 第53-70页 |
| ·原位聚合LBL-SA聚苯胺复合敏感膜的设计 | 第54-56页 |
| ·原位聚合聚苯胺LBL-SA膜的纳米结构控制 | 第54页 |
| ·聚苯胺LBL-SA膜复合层体系的选取 | 第54-55页 |
| ·基片的选取 | 第55页 |
| ·PANI结构的选取 | 第55-56页 |
| ·实验方案路线 | 第56-57页 |
| ·主要试剂与原料 | 第57-59页 |
| ·LBL-SA技术制备聚苯胺复合膜的制备过程 | 第59-60页 |
| ·溶液配制 | 第59页 |
| ·基片改性处理 | 第59-60页 |
| ·改性基片上原位聚合聚苯胺LBL-SA膜的制备 | 第60页 |
| ·聚苯胺LBL-SA膜的表征 | 第60-67页 |
| ·结构与组成表征 | 第60-62页 |
| ·形貌表征 | 第62-63页 |
| ·自组装膜性能表征 | 第63-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 第三章 原位聚合聚苯胺LBL-SA膜成膜过程及机理研究 | 第70-84页 |
| ·基片的改性处理对苯胺原位聚合成膜的影响 | 第70-72页 |
| ·苯胺原位聚合成PSS/PANI自组装膜的过程 | 第72-73页 |
| ·聚合反应的不同阶段取出基片所得PSS/PANI自组装膜 | 第73-76页 |
| ·在不同反应阶段加入基片生成的PSS/PANI自组装膜 | 第76-78页 |
| ·苯胺单体预吸附对成膜的影响 | 第78-79页 |
| ·原位聚合聚苯胺LBL-SA成(PSS/PANI)n膜 | 第79-81页 |
| ·聚苯胺LBL-SA膜的制备 | 第79页 |
| ·聚苯胺LBL-SA膜的紫外-可见光谱表征 | 第79-80页 |
| ·聚苯胺LBL-SA膜的截面形貌表征 | 第80-81页 |
| ·(PSS/PANI)n自组装膜的成膜机理 | 第81-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-84页 |
| 第四章 原位聚合聚苯胺LBL-SA膜成膜工艺与结构性能研究 | 第84-110页 |
| ·PSS/PANI成膜工艺优化 | 第84-91页 |
| ·苯胺活性溶液中的成膜影响因素 | 第85-88页 |
| ·PSS溶液中的成膜影响因素 | 第88-91页 |
| ·(PSS/PANI)n自组装膜的制备及其结构和性能分析 | 第91-106页 |
| ·(PSS/PANI)n自组装膜的制备 | 第91-92页 |
| ·紫外-可见光谱和导电性能表征 | 第92-95页 |
| ·振动光谱表征 | 第95-97页 |
| ·光电子能谱XPS表征 | 第97-99页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第99页 |
| ·形貌分析 | 第99-102页 |
| ·电化学性能研究 | 第102-104页 |
| ·稳定性分析 | 第104-106页 |
| ·红外反射光谱 | 第106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-110页 |
| 第五章 原位聚合聚苯胺LBL-SA膜的氨敏性能研究 | 第110-127页 |
| ·敏感膜的性能参数 | 第111页 |
| ·敏感膜与气体相互作用的理论模型 | 第111-116页 |
| ·气体在膜中传递的理论基础 | 第111-112页 |
| ·气体运动扩散模型 | 第112-115页 |
| ·各向异性表面吸附位模型 | 第115-116页 |
| ·(PSS/PANI)n自组装膜的氨敏性能研究 | 第116-123页 |
| ·PSS/PANI自组装膜敏感机理分析 | 第116-117页 |
| ·不同层数敏感膜对NH_3的敏感性 | 第117-118页 |
| ·敏感膜对不同浓度NH_3的敏感性 | 第118-119页 |
| ·PSS/PANI自组装膜对NHP3的响应恢复性能研究 | 第119-120页 |
| ·敏感膜的抗干扰特性 | 第120-121页 |
| ·空气湿度对敏感膜的影响 | 第121-122页 |
| ·掺杂对敏感膜的影响 | 第122-123页 |
| ·本章小结 | 第123页 |
| 参考文献 | 第123-127页 |
| 第六章 原位聚合聚苯胺LBL-SA膜的结构调节及对化学战剂模拟剂敏感性能研究 | 第127-141页 |
| ·(PSS/PANI)n自组装膜的结构调节 | 第129-132页 |
| ·紫外可见光谱分析 | 第129-130页 |
| ·红外光谱分析 | 第130-132页 |
| ·不同结构PSS/PANI自组装膜的抗湿性研究 | 第132-134页 |
| ·不同结构PSS/PANI自组装膜对化学战剂模拟剂的气敏性影响 | 第134-138页 |
| ·PSS/PANI对沙林神经毒剂模拟剂DMMP的敏感性 | 第134-135页 |
| ·PSS/PANI对芥子气模拟剂CEES的敏感性 | 第135-136页 |
| ·不同结构PANI对化学战剂模拟剂敏感性的影响 | 第136-138页 |
| ·本章小结 | 第138-139页 |
| 参考文献 | 第139-141页 |
| 第七章 原位聚合聚苯胺LBL-SA膜的扩展 | 第141-158页 |
| ·(PVA/PANI)n自组装膜的制备及表征 | 第141-151页 |
| ·基片的预处理 | 第141-142页 |
| ·PVA/PANI自组装膜的制备 | 第142-143页 |
| ·原位聚合聚苯胺氢键LBL-SA成膜的机理 | 第143-145页 |
| ·(PVA/PANI)n膜的制备 | 第145页 |
| ·(PVA/PANI)n自组装膜的表征 | 第145-150页 |
| ·(PVA/PANI)n自组装膜的稳定性分析 | 第150-151页 |
| ·(PSS/POT)n自组装膜的制备及表征 | 第151-155页 |
| ·(PSS/POT)n自组装膜的制备 | 第151页 |
| ·(PSS/POT)n自组装膜的表征 | 第151-154页 |
| ·(PSS/POT)n自组装膜的稳定性分析 | 第154-155页 |
| ·(PSS/POT)n、(PVA/PANI)n自组装膜气敏性展望 | 第155页 |
| ·本章小结 | 第155-156页 |
| 参考文献 | 第156-158页 |
| 结论 | 第158-161页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第161-162页 |
| 致谢 | 第162页 |
