钨青铜纳米材料薄膜的制备和电致变色功能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-34页 |
| ·多功能超薄膜 | 第9-12页 |
| ·自组装膜 | 第9-10页 |
| ·层接层自组装薄膜的研究进展 | 第10页 |
| ·层接层自组装薄膜的种类 | 第10-11页 |
| ·层接层自组装薄膜的表征方法 | 第11-12页 |
| ·电致变色材料发展概述 | 第12-19页 |
| ·无机电致变色材料 | 第14-16页 |
| ·有机电致变色材料 | 第16-18页 |
| ·纳米电致变色材料 | 第18-19页 |
| ·钨青铜系列纳米材料 | 第19-28页 |
| ·钨青铜概述 | 第19页 |
| ·钨青铜材料的制备 | 第19-27页 |
| ·钨青铜材料的常规制备方法 | 第19-22页 |
| ·纳米钨青铜材料的制备 | 第22-27页 |
| ·钨青铜的应用 | 第27-28页 |
| ·本课题的选择目的 | 第28-31页 |
| ·参考文献 | 第31-34页 |
| 第二章 钼掺杂钨青铜无机-有机复合薄膜 | 第34-44页 |
| ·概述 | 第34页 |
| ·试验过程 | 第34-36页 |
| ·试验材料和涉及到的仪器 | 第34-35页 |
| ·纳米材料的合成 | 第35页 |
| ·钨青铜复合薄膜的制备 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-42页 |
| ·电化学循环伏安 | 第36页 |
| ·电致变色宏观视觉效果研究 | 第36-37页 |
| ·薄膜色对比度研究 | 第37-38页 |
| ·变色效率研究 | 第38-39页 |
| ·开关速度研究 | 第39页 |
| ·薄膜耐久度研究 | 第39-41页 |
| ·薄膜光记忆性能研究 | 第41-42页 |
| ·结论 | 第42-43页 |
| ·参考文献 | 第43-44页 |
| 第三章 钨青铜电致变色薄膜的颜色范围拓展 | 第44-56页 |
| ·概述 | 第44页 |
| ·实验过程 | 第44-47页 |
| ·实验设备与药品 | 第44-45页 |
| ·过渡金属掺杂钨青铜纳米材料的制备 | 第45-46页 |
| ·制备复合薄膜 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-54页 |
| ·循环伏安测试 | 第47-49页 |
| ·宏观变色分析 | 第49-50页 |
| ·色对比度研究 | 第50页 |
| ·变色效率研究 | 第50-51页 |
| ·开关速度研究 | 第51-52页 |
| ·薄膜耐久度研究 | 第52-53页 |
| ·光学记忆效应 | 第53-54页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| ·参考文献 | 第55-56页 |
| 第四章 全纳米颗粒多层薄膜 | 第56-65页 |
| ·概述 | 第56-57页 |
| ·实验 | 第57-58页 |
| ·实验材料 | 第57页 |
| ·纳米材料合成 | 第57-58页 |
| ·制备薄膜 | 第58页 |
| ·结果与讨论 | 第58-63页 |
| ·循环伏安测试 | 第58-59页 |
| ·宏观变色研究 | 第59页 |
| ·色对比度研究 | 第59-60页 |
| ·变色效率研究 | 第60-61页 |
| ·开关速度研究 | 第61页 |
| ·薄膜耐久度研究 | 第61-62页 |
| ·光记忆属性 | 第62页 |
| ·光学特性:抗反光性 | 第62-63页 |
| ·结论 | 第63-64页 |
| ·参考文献 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 攻读博士期间以第一作者发表的文章 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
