| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-17页 |
| ·ZnO 的性能 | 第8-12页 |
| ·ZnO 的晶格特性 | 第8-9页 |
| ·ZnO薄膜的光电特性 | 第9-10页 |
| ·ZnO 薄膜的p - n结特性 | 第10-12页 |
| ·ZnO薄膜的磁性掺杂 | 第12-14页 |
| ·ZnO材料研究面临的问题 | 第14页 |
| ·本文研究的思路和主要内容 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-17页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备 | 第17-26页 |
| ·ZnO 薄膜的生长技术 | 第17-18页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第17页 |
| ·分子束外延 | 第17页 |
| ·溶胶凝胶法(Sol-Gel) | 第17-18页 |
| ·溅射镀膜 | 第18页 |
| ·溅射原理 | 第18-21页 |
| ·射频溅射 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射 | 第20页 |
| ·射频磁控溅射 | 第20-21页 |
| ·本实验样品的制备 | 第21-23页 |
| ·基片的清洗 | 第23-24页 |
| ·样品的退火处理 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-26页 |
| 第三章 薄膜的表征 | 第26-33页 |
| ·膜厚的测量 | 第26-27页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第27-28页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第28-30页 |
| ·X 射线光谱学（XPS） | 第30-31页 |
| ·紫外透射和吸收谱分析 | 第31页 |
| ·光致发光（PL）谱分析 | 第31-33页 |
| 第四章 Si 衬底上Fe-ZnO 薄膜结构及光致发光性质 | 第33-39页 |
| ·FexZn1-xO 薄膜的结构 | 第33-36页 |
| ·薄膜的XPS 及XRD 分析 | 第33-35页 |
| ·FexZn1-xO 薄膜的SEM 照片 | 第35-36页 |
| ·FexZn1-xO 薄膜光致发光（PL）性质 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第五章 A1_2O_3衬底上Fe-ZnO薄膜结构及光学性质 | 第39-46页 |
| ·薄膜的结构 | 第39-42页 |
| ·薄膜的XPS 及XRD 分析 | 第39-40页 |
| ·薄膜的 SEM 照片 | 第40-42页 |
| ·薄膜的光学性质 | 第42-44页 |
| ·薄膜的光致发光(PL)性质 | 第42-43页 |
| ·薄膜的光吸收性质 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第六章 结论 | 第46-48页 |
| ·研究了 Si 衬底上制备的 Fe 掺杂 ZnO 薄膜的结构及发光特性 | 第46页 |
| ·研究了 Al_2O_3 衬底上制备的 Fe 掺杂 ZnO 薄膜的结构及光学性质 | 第46-47页 |
| ·研究工作中的不足和需要进一步研究的问题 | 第47-48页 |
| 硕士期间发表论文 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-51页 |
| 详细摘要 | 第51-54页 |
