基于非晶硅薄膜的红外吸收层膜系设计、仿真与实验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·红外探测器发展概况 | 第11-15页 |
| ·红外探测器的分类 | 第11-13页 |
| ·红外探测器的研究历史与现状 | 第13-15页 |
| ·红外焦平面阵列的发展概况 | 第15-17页 |
| ·制冷型红外焦平面阵列 | 第15-17页 |
| ·非制冷型红外焦平面阵列 | 第17页 |
| ·微测辐射热计红外探测器 | 第17-24页 |
| ·微测辐射热计的工作原理 | 第18-20页 |
| ·微测辐射热计的热敏感材料 | 第20-21页 |
| ·微测辐射热计的红外吸收材料 | 第21-22页 |
| ·非晶硅微测辐射热计的历史与现状 | 第22-24页 |
| ·论文的主要工作 | 第24-26页 |
| ·选题意义 | 第24-25页 |
| ·研究内容 | 第25-26页 |
| 第二章 非晶硅微测辐射热计的结构与性能 | 第26-34页 |
| ·非晶硅微测辐射热计的结构 | 第26-31页 |
| ·基本微桥结构 | 第26-28页 |
| ·桥面与桥腿 | 第28-29页 |
| ·反射层 | 第29-30页 |
| ·红外吸收层 | 第30-31页 |
| ·非晶硅微测辐射热计的性能 | 第31-34页 |
| ·电学性能 | 第31-32页 |
| ·力学性能 | 第32页 |
| ·热学性能 | 第32-33页 |
| ·光学性能 | 第33-34页 |
| 第三章 基于非晶硅薄膜的红外吸收层膜系设计与仿真 | 第34-58页 |
| ·光学导纳矩阵法介绍 | 第34-40页 |
| ·单层薄膜的特征矩阵 | 第35-37页 |
| ·多层膜系的特征矩阵及其指数 | 第37-40页 |
| ·仿真模型 | 第40页 |
| ·红外吸收层膜系仿真与设计 | 第40-51页 |
| ·单层薄膜体系仿真 | 第41-45页 |
| ·双层薄膜体系仿真 | 第45-47页 |
| ·多层薄膜体系仿真 | 第47-51页 |
| ·器件仿真 | 第51-55页 |
| ·单层非晶硅薄膜器件仿真 | 第51-52页 |
| ·双层薄膜器件仿真 | 第52-54页 |
| ·多层薄膜器件仿真 | 第54-55页 |
| ·器件结构设计与优化 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 薄膜红外吸收性能研究 | 第58-73页 |
| ·红外吸收材料薄膜的制备方法 | 第58-62页 |
| ·等离子增强化学气相沉积（PECVD） | 第58-59页 |
| ·电子束蒸发 | 第59-60页 |
| ·多弧离子镀 | 第60-62页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第62-67页 |
| ·PECVD 法制备氮化硅薄膜 | 第62页 |
| ·电子束蒸发法制备氧化钛薄膜 | 第62-66页 |
| ·多弧离子镀法制备氮化钛薄膜 | 第66-67页 |
| ·薄膜性能的表征方法 | 第67-68页 |
| ·结果分析与讨论 | 第68-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-75页 |
| ·结论 | 第73页 |
| ·展望 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
