行波管用碳纳米管场发射阴极组件的研制
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-14页 |
| ·课题背景、价值及意义 | 第9-10页 |
| ·课题的研究历史、现状及存在的问题 | 第10-13页 |
| ·本论文的主要工作 | 第13-14页 |
| 第二章 碳纳米管及其场发射性能 | 第14-23页 |
| ·碳纳米管概述 | 第14-16页 |
| ·碳纳米管制备方法 | 第16-17页 |
| ·金属场发射基本理论 | 第17-19页 |
| ·碳纳米管的场发射性能 | 第19-22页 |
| ·碳纳米管的场致发射机理 | 第19-20页 |
| ·碳纳米管薄膜场发射阴极 | 第20-21页 |
| ·影响碳纳米管场发射性能的因素 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第三章 碳纳米管场发射微束阵列的制备 | 第23-50页 |
| ·碳纳米管微束阵列的制备工艺 | 第23-31页 |
| ·硅片清洗 | 第24页 |
| ·光刻工艺 | 第24-26页 |
| ·硅片的干法刻蚀 | 第26-27页 |
| ·催化剂沉积 | 第27-28页 |
| ·MWPCVD 法制备碳纳米管微束阵列 | 第28-31页 |
| ·影响碳纳米管微束阵列的因素 | 第31-43页 |
| ·催化剂Fe 的厚度对碳纳米管微束的影响 | 第31-33页 |
| ·衬底温度对碳纳米管微束的影响 | 第33-35页 |
| ·生长时间对碳纳米管的影响 | 第35-36页 |
| ·催化剂结构对碳纳米管微束的影响 | 第36-39页 |
| ·衬底材料对碳纳米管微束的影响 | 第39-42页 |
| ·微束直径对阵列的影响 | 第42-43页 |
| ·改善衬底与碳纳米管的粘附性 | 第43-45页 |
| ·光刻工艺对碳纳米管阵列制备的影响 | 第45-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 行波管阴极组件的仿真与制备 | 第50-63页 |
| ·MAGIC 简介 | 第50-51页 |
| ·碳纳米管场发射外栅极阴极组件 | 第51-56页 |
| ·外栅极阴极组件模型的建立 | 第51-53页 |
| ·仿真结果及讨论 | 第53-55页 |
| ·外栅极阴极组件制备 | 第55-56页 |
| ·碳纳米管场发射内栅极阴极组件 | 第56-62页 |
| ·内栅极阴极组件模型的建立 | 第56-57页 |
| ·仿真结果及讨论 | 第57-60页 |
| ·内栅极阴极组件制备 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 行波管阴极组件测试 | 第63-73页 |
| ·场发射测试系统 | 第63-64页 |
| ·样品退火及其场发射测试 | 第64-68页 |
| ·样品的退火 | 第64-66页 |
| ·碳纳米管微束阵列的场发射测试 | 第66-68页 |
| ·行波管阴极组件测试 | 第68-72页 |
| ·外栅极结构测试 | 第68-70页 |
| ·内栅极结构测试 | 第70-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 第六章 结束语 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 作者攻硕期间取得的成果 | 第80-81页 |
