纳米TiO2薄膜的制备及其性质的研究
| 第一章 绪论 | 第1-20页 |
| ·纳米材料与二氧化钛 | 第8-10页 |
| ·二氧化钛的结构性质与应用 | 第10-17页 |
| ·二氧化钛的晶体结构 | 第10-12页 |
| ·二氧化钛的性质 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛的应用 | 第13-17页 |
| ·本论文的选题原因 | 第17-20页 |
| 第二章 镀膜设备和薄膜制备的基本程序 | 第20-28页 |
| ·TiO_2薄膜制备方法的概述 | 第20-22页 |
| ·射频磁控溅射设备 | 第22-26页 |
| ·薄膜制备的基本程序 | 第26-28页 |
| ·基底的表面处理 | 第26页 |
| ·镀膜用的靶材 | 第26-27页 |
| ·TiO_2薄膜的沉积 | 第27-28页 |
| 第三章 二氧化钛薄膜的表征 | 第28-42页 |
| ·TiO_2薄膜Raman 光谱 | 第28-31页 |
| ·拉曼散射 | 第28页 |
| ·TiO_2薄膜的 Raman 光谱分析 | 第28-31页 |
| ·TiO_2薄膜的 X 射线衍射 | 第31-34页 |
| ·X 射线衍射 | 第31-32页 |
| ·TiO_2薄膜的X 射线衍射光谱分析 | 第32-34页 |
| ·TiO_2薄膜的紫外-可见光吸收. | 第34-35页 |
| ·紫外-可见光吸 | 第34页 |
| ·TiO_2薄膜的紫外-可见光吸收光谱分析 | 第34-35页 |
| ·TiO_2薄膜的原子力显微镜(AFM)测试 | 第35-40页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第35-37页 |
| ·TiO_2薄膜的形貌分析 | 第37-40页 |
| ·TiO_2薄膜厚度的测量 | 第40-41页 |
| ·TiO_2薄膜与基片的粘附性测试 | 第41-42页 |
| 第四章 沉积参数对二氧化钛薄膜生长的影响 | 第42-50页 |
| ·RF 射频功率对氧化钛薄膜生长的影响 | 第42-43页 |
| ·沉积气压对氧化钛薄膜生长的影响 | 第43-45页 |
| ·沉积气体成分对氧化钛薄膜生长的影响 | 第45-47页 |
| ·沉积时间对氧化钛薄膜生的影响 | 第47-48页 |
| ·基底偏压对氧化钛薄膜生长的影响 | 第48-50页 |
| 第五章 二氧化钛薄膜电学性质的研究 | 第50-59页 |
| ·程氏二级层理论的简单介绍 | 第50-52页 |
| ·复合材料电学性质的测量 | 第52-53页 |
| ·电阻率的测量方法 | 第52页 |
| ·电阻率的测量装置 | 第52-53页 |
| ·Si-TiO_2二级层的研究 | 第53-55页 |
| ·NiMnCo-TiO_2二级层的研究 | 第55-56页 |
| ·不同基底材料 TiO_2薄膜导电性的比较 | 第56-59页 |
| 第六章 二氧化钛薄膜光学性质的研究 | 第59-74页 |
| ·TiO_2薄膜紫外-可见反射吸收光谱的移动 | 第60-71页 |
| ·TiO_2薄膜带隙Eg的计算 | 第71-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 附中英文摘要 | 第82-88页 |
