直接法合成三乙氧基硅烷的研究
| 第一章 文献综述及选题意义 | 第1-22页 |
| ·本研究的意义 | 第8-9页 |
| ·三烷氧基含氢硅烷的应用 | 第9-11页 |
| ·烷氧基含氢硅烷的制备方法 | 第11-15页 |
| ·有机卤硅烷的醇解反应 | 第11-13页 |
| ·酯交换法 | 第13页 |
| ·HSi(NCH_3)_3醇解法 | 第13-14页 |
| ·二硅烷的醇解热裂解制备烷氧基含氢硅烷 | 第14页 |
| ·直接合成法 | 第14-15页 |
| ·直接法的反应条件及国内外的进展 | 第15-22页 |
| ·反应所用的原料和溶剂 | 第15-17页 |
| ·催化反应的条件 | 第17-20页 |
| ·产物的消泡和分离 | 第20-22页 |
| 第二章 研究方法 | 第22-28页 |
| ·试剂和仪器 | 第22-24页 |
| ·主要化学试剂 | 第22-23页 |
| ·主要化学仪器 | 第23-24页 |
| ·催化剂前驱物的制备 | 第24-25页 |
| ·三乙氧基硅烷的合成 | 第25-26页 |
| ·产物的分析 | 第26页 |
| ·产物的气相色谱分析 | 第26页 |
| ·产物的折光率测试 | 第26页 |
| ·产物的红外光谱分析 | 第26页 |
| ·反应生成物的精馏试验分析 | 第26页 |
| ·样品的物性表征 | 第26-28页 |
| ·样品的XRD检测 | 第26-27页 |
| ·样品的原子吸收分光光度法 | 第27页 |
| ·样品的比表面积测定 | 第27页 |
| ·扫描电镜和透射电镜 | 第27-28页 |
| 第三章 纳米CuCl催化剂催化合成三乙氧基硅烷 | 第28-36页 |
| ·催化剂的制备 | 第28页 |
| ·三乙氧基硅烷的制备 | 第28页 |
| ·产物三乙氧基硅烷的分析 | 第28-29页 |
| ·红外光谱分析 | 第28页 |
| ·折光率分析 | 第28-29页 |
| ·色谱分析 | 第29页 |
| ·三乙氧基硅烷的精馏实验分析 | 第29页 |
| ·气态乙醇鼓泡法硅-醇直接合成中反应条件的影响 | 第29-32页 |
| ·反应温度对产物选择性的影响 | 第30页 |
| ·催化剂用量对产物选择性的影响 | 第30页 |
| ·硅粉粒度对产物选择性的影响 | 第30-31页 |
| ·乙醇流量对产物选择性的影响 | 第31-32页 |
| ·不同溶剂对产物选择性的影响 | 第32页 |
| ·催化剂的比表面测定 | 第32-34页 |
| ·催化剂中各金属元素含量 | 第33页 |
| ·催化剂的XRD分析 | 第33-34页 |
| ·反应所用硅粉的物征值 | 第34页 |
| ·反应所用硅粉的元素组成 | 第34页 |
| ·反应所用硅粉的粒度分布 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-36页 |
| 第四章 非卤纳米铜系催化剂直接合成三乙氧基硅烷 | 第36-56页 |
| ·纳米氧化铜催化剂直接合成三乙氧基硅烷 | 第36-45页 |
| 4 1.1 催化剂的制备 | 第36页 |
| ·三乙氧基硅烷的制备 | 第36页 |
| ·直接合成中反应条件的影响 | 第36-41页 |
| ·催化剂的表征 | 第41-43页 |
| ·纳米氧化铜催化剂与氯化亚铜催化剂的比 | 第43-45页 |
| ·纳米氢氧化铜催化剂直接合成三乙氧基硅烷 | 第45-51页 |
| ·纳米氢氧化铜催化剂的制备 | 第45页 |
| ·三乙氧基硅烷的制备 | 第45页 |
| ·直接合成中反应条件的影响 | 第45-48页 |
| ·催化剂的表征 | 第48-51页 |
| ·纳米氧化亚铜催化剂直接合成三乙氧基硅烷的研究 | 第51-54页 |
| ·纳米氧化亚铜催化剂的制备 | 第51页 |
| ·三乙氧基硅烷的制备 | 第51页 |
| ·反应条件的影响 | 第51-53页 |
| ·催化剂的XRD测试 | 第53-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
