| 目录 | 第1-6页 |
| 图目录 | 第6-8页 |
| 表目录 | 第8-9页 |
| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-25页 |
| 1．1 超磁致伸缩薄膜的研究及其应用 | 第12-18页 |
| 1．1．1 超磁致伸缩薄膜低场磁敏性理论研究 | 第13-14页 |
| 1．1．2 超磁致伸缩薄膜低场磁敏性实验研究 | 第14-18页 |
| 1．1．3 超磁致伸缩薄膜的性能特点与应用前景 | 第18页 |
| 1．2 基于马赫-曾德尔光纤磁场传感器的磁敏传感臂研究及进展 | 第18-24页 |
| 1．2．1 光纤磁敏原理 | 第19-21页 |
| 1．2．2 光纤磁场传感器的研究及进展 | 第21-23页 |
| 1．2．3 光纤磁场传感器的发展趋势 | 第23-24页 |
| 1．3 选题依据及研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验与研究方法 | 第25-30页 |
| 2．1 薄膜样品的制备 | 第25-27页 |
| 2．1．1 溅射靶材的制备 | 第25页 |
| 2．1．2 基片清洗 | 第25页 |
| 2．1．3 溅射镀膜 | 第25-26页 |
| 2．1．4 薄膜的热处理 | 第26-27页 |
| 2．1．5 TbDyFe-FeNi多层膜/光纤复合结构的制备及性能研究 | 第27页 |
| 2．2 薄膜样品的性能测试与表征 | 第27-30页 |
| 2．2．1 薄膜结构及成分分析 | 第27页 |
| 2．2．2 薄膜表面形貌、截面形貌和厚度观测 | 第27页 |
| 2．2．3 薄膜磁性能测试 | 第27-28页 |
| 2．2．4 薄膜磁致伸缩性能测量 | 第28-30页 |
| 第三章 结果讨论与分析 | 第30-66页 |
| 3．1 薄膜结构和成分分析 | 第30-35页 |
| 3．1．1 薄膜的截面形貌分析 | 第30-31页 |
| 3．1．2 薄膜组织结构分析 | 第31-33页 |
| 3．1．3 薄膜成分分析 | 第33-35页 |
| 3．2 薄膜磁性能 | 第35-40页 |
| 3．2．1 单一Fe_(1-x)Ni_x薄膜的磁性能 | 第35-37页 |
| 3．2．2 单一TbDyFe薄膜的磁性能 | 第37-38页 |
| 3．2．3 TbDyFe-Fe_(1-x)Ni_x多层膜的磁性能 | 第38-40页 |
| 3．3 TbDyFe-Fe_(1-x)Ni_x多层膜磁致伸缩性能研究 | 第40-46页 |
| 3．3．1 多层膜的△E效应对磁致伸缩计算结果的影响 | 第40-41页 |
| 3．3．2 TbDyFe-Fe_(1-x)Ni_x多层膜磁致伸缩性能 | 第41-44页 |
| 3．3．3 热处理对多层膜磁致伸缩性能的影响 | 第44页 |
| 3．3．3 外加磁场条件下制备薄膜对磁致伸缩性能的影响 | 第44-46页 |
| 3．3．4 外加应力条件下制备薄膜对磁致伸缩性能的影响 | 第46页 |
| 3．4 超磁致伸缩薄膜/光纤复合结构模型理论 | 第46-53页 |
| 3．4．1 超磁致伸缩薄膜/光纤复合结构简单模型计算 | 第46-50页 |
| 3．4．2 超磁致伸缩薄膜/光纤复合结构修正模型计算 | 第50-51页 |
| 3．4．3 超磁致伸缩薄膜/光纤复合结构形变唯象研究 | 第51-53页 |
| 3．5 TbDyFe-FeNi 多层膜/光纤复合结构 ANSYS模拟计算 | 第53-57页 |
| 3．5．1 有限元分析模型 | 第54页 |
| 3．5．2 有限元分析方法 | 第54-57页 |
| 3．6 TbDyFe-FeNi 多层膜/光纤磁敏传感臂磁性能实验研究 | 第57-66页 |
| 3．6．1 TbDyFe-FeNi多层膜/光纤磁敏传感臂的制备及磁检测系统组成 | 第57-58页 |
| 3．6．2 TbDyFe-FeNi多层膜/光纤磁敏传感臂磁敏性能测试 | 第58-66页 |
| 第四章 结论 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 论文发表情况 | 第72页 |
