撞击流与合成气制备炉的数值模拟
| 第一部分 文献综述 | 第1-33页 |
| 第一章 计算机数值模拟技术 | 第11-12页 |
| 第二章 撞击流技术 | 第12-23页 |
| ·前言 | 第12页 |
| ·撞击流的分类 | 第12-14页 |
| ·撞击流的主要特性 | 第14-17页 |
| ·流体阻力 | 第14页 |
| ·传递系数 | 第14页 |
| ·混合性质 | 第14-16页 |
| ·停留时间 | 第16页 |
| ·破碎、分散和雾化 | 第16-17页 |
| ·撞击流的应用 | 第17-21页 |
| ·撞击流干燥与传热过程 | 第17-19页 |
| ·撞击流燃烧过程 | 第19-20页 |
| ·撞击流萃取和乳液制备 | 第20页 |
| ·撞击流技术在其他过程中的应用研究 | 第20-21页 |
| ·撞击流的理论研究 | 第21-22页 |
| ·展望 | 第22-23页 |
| 第三章 高炉技术 | 第23-33页 |
| ·高炉炼铁 | 第23-25页 |
| ·高炉喷吹技术 | 第25-26页 |
| ·高炉作为气化炉 | 第26-28页 |
| ·天然气-煤共气化工艺 | 第28-33页 |
| ·合成气制备炉的概念设计 | 第28-30页 |
| ·合成气制备炉对煤质的要求 | 第30-31页 |
| ·合成气制备炉内的温度控制原则 | 第31页 |
| ·合成气出口位置的设定 | 第31-32页 |
| ·天然气-共气化工艺的特点 | 第32-33页 |
| 第二部分 研究内容 | 第33-74页 |
| 第四章 对置撞击流速度分布的模拟研究 | 第33-51页 |
| ·前言 | 第33页 |
| ·对置撞击流过程的物理模型 | 第33-34页 |
| ·对置撞击流过程的数学模型 | 第34-45页 |
| ·简化假设 | 第34-35页 |
| ·数学模型的建立 | 第35-45页 |
| ·基本控制方程 | 第35页 |
| ·计算方法 | 第35-45页 |
| ·模拟结果分析 | 第45-50页 |
| ·径向速度 v 与喷嘴间距 L | 第45-47页 |
| ·径向速度 v 与入口管径 | 第47-48页 |
| ·径向速度 v 与入口流速 uin | 第48-49页 |
| ·结论 | 第49-50页 |
| ·讨论与展望 | 第50-51页 |
| 第五章 合成气制备炉的数值模拟 | 第51-74页 |
| ·前言 | 第51页 |
| ·物理模型 | 第51-52页 |
| ·数学模型 | 第52-67页 |
| ·数学模型的组成 | 第52页 |
| ·数学模型的建立 | 第52-67页 |
| ·基本假设 | 第52页 |
| ·炉内气体的流动 | 第52-58页 |
| ·炉内的温度分布 | 第58-60页 |
| ·合成气制备炉内的化学反应 | 第60-64页 |
| ·合成气制备炉内主要组分的浓度分布 | 第64-65页 |
| ·有关热力学及动力学参数的确定 | 第65-67页 |
| ·模型小结 | 第67页 |
| ·计算方法 | 第67页 |
| ·模拟结果及讨论 | 第67-72页 |
| ·气体的流动 | 第68页 |
| ·炉内的温度分布 | 第68-69页 |
| ·炉内气相各组分的浓度分布 | 第69-72页 |
| ·H2 的浓度分布 | 第69-70页 |
| ·CH4 的浓度分布 | 第70-71页 |
| ·CO2 的浓度分布 | 第71页 |
| ·CO 的浓度分布 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| ·展望 | 第73-74页 |
| 第三部分 结论 | 第74-76页 |
| 第六章 结论 | 第74-76页 |
| ·对撞击流的模拟 | 第74页 |
| ·对合成气制备炉的模拟 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 致 谢 | 第80-81页 |
| 攻读硕士学位期间论文发表情况 | 第81页 |
