摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
第1章 绪论 | 第9-13页 |
·杂质偏析金属材料晶界的研究意义及现状 | 第9-10页 |
·第一性原理的发展及应用 | 第10-11页 |
·本文的研究目的及内容 | 第11-13页 |
第2章 理论基础与计算方法 | 第13-21页 |
·密度泛函理论 | 第13-17页 |
·Born-Oppenheimer 绝热近似 | 第13-14页 |
·Hartree-Fock 近似 | 第14-15页 |
·Hohenberg-Kohn 定理 | 第15-16页 |
·Kohn-Sham 方程 | 第16-17页 |
·交换相关能泛函 | 第17-18页 |
·局域密度近似(Local Density Approximation, LDA) | 第17页 |
·广义梯度近似(Generalized Gradient Approximation, GGA) | 第17-18页 |
·Hellmann-Feynman 定理 | 第18页 |
·VASP 软件包 | 第18-19页 |
·本章小结 | 第19-21页 |
第3章 Si 偏析 AlΣ5 晶界的第一性原理拉伸实验 | 第21-47页 |
·引言 | 第21-22页 |
·晶界模型与计算方法 | 第22-25页 |
·面心立方结构 Al 的晶格常数 | 第22页 |
·晶界模型 | 第22-23页 |
·计算方法 | 第23-25页 |
·杂质原子 Si 的结合能 | 第25页 |
·计算结果与讨论 | 第25-45页 |
·Si 偏析 Al 晶界的占位倾向 | 第25-26页 |
·体系的总能量和理论拉伸强度 | 第26-32页 |
·原子构型和键长 | 第32-38页 |
·电荷密度 | 第38-43页 |
·态密度 | 第43-45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
结论 | 第47-48页 |
参考文献 | 第48-52页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第52-53页 |
致谢 | 第53-54页 |
作者简介 | 第54页 |