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Si偏析AlΣ5境界的第一性原理研究

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
第1章 绪论第9-13页
   ·杂质偏析金属材料晶界的研究意义及现状第9-10页
   ·第一性原理的发展及应用第10-11页
   ·本文的研究目的及内容第11-13页
第2章 理论基础与计算方法第13-21页
   ·密度泛函理论第13-17页
     ·Born-Oppenheimer 绝热近似第13-14页
     ·Hartree-Fock 近似第14-15页
     ·Hohenberg-Kohn 定理第15-16页
     ·Kohn-Sham 方程第16-17页
   ·交换相关能泛函第17-18页
     ·局域密度近似(Local Density Approximation, LDA)第17页
     ·广义梯度近似(Generalized Gradient Approximation, GGA)第17-18页
   ·Hellmann-Feynman 定理第18页
   ·VASP 软件包第18-19页
   ·本章小结第19-21页
第3章 Si 偏析 AlΣ5 晶界的第一性原理拉伸实验第21-47页
   ·引言第21-22页
   ·晶界模型与计算方法第22-25页
     ·面心立方结构 Al 的晶格常数第22页
     ·晶界模型第22-23页
     ·计算方法第23-25页
     ·杂质原子 Si 的结合能第25页
   ·计算结果与讨论第25-45页
     ·Si 偏析 Al 晶界的占位倾向第25-26页
     ·体系的总能量和理论拉伸强度第26-32页
     ·原子构型和键长第32-38页
     ·电荷密度第38-43页
     ·态密度第43-45页
   ·本章小结第45-47页
结论第47-48页
参考文献第48-52页
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果第52-53页
致谢第53-54页
作者简介第54页

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