激光干涉光刻技术
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 1 引言 | 第12-26页 |
| ·光刻技术概述 | 第12-13页 |
| ·光刻技术的基本原理和基本类型 | 第13-19页 |
| ·光刻技术的发展趋势 | 第19-21页 |
| ·激光干涉光刻技术研究的目的和意义 | 第21-22页 |
| ·本论文研究重点 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-26页 |
| 2 激光干涉光刻技术 | 第26-34页 |
| ·干涉光刻的理论基础 | 第26-28页 |
| ·干涉光刻的主要类型 | 第28-32页 |
| ·无掩模激光干涉光刻 | 第30-31页 |
| ·全息光刻 | 第31-32页 |
| ·成像干涉光刻 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32页 |
| 参考文献 | 第32-34页 |
| 3 无掩模激光干涉光刻技术 | 第34-64页 |
| ·无掩模激光干涉光刻的原理 | 第34-50页 |
| ·双光束干涉曝光 | 第34-36页 |
| ·双光束双曝光法 | 第36-37页 |
| ·三光束干涉曝光 | 第37-42页 |
| ·三光束双曝光法 | 第37-41页 |
| ·三光束同时(单)曝光法 | 第41-42页 |
| ·四光束干涉一次曝光法 | 第42-47页 |
| ·五光束干涉曝光法 | 第47-50页 |
| ·无掩模激光干涉光刻的类型和实现方法 | 第50-62页 |
| ·双光束与双光束对干涉光刻系统 | 第51-54页 |
| ·三光束与三光束对干涉光刻系统 | 第54-56页 |
| ·四光束干涉光刻系统 | 第56-57页 |
| ·五光束干涉光刻系统 | 第57-58页 |
| ·液浸式深紫外干涉光刻系统 | 第58-59页 |
| ·全自动干涉光刻系统 | 第59-60页 |
| ·成像干涉光刻系统 | 第60-61页 |
| ·其它干涉光刻方法 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 4 无掩模干涉光刻的计算模拟与实验研究 | 第64-109页 |
| ·无掩模干涉光刻的计算模拟 | 第64-83页 |
| ·无掩模干涉光刻的实验研究 | 第83-91页 |
| ·实验系统 | 第83-86页 |
| ·实验光路调整 | 第86页 |
| ·曝光工艺 | 第86-87页 |
| ·实验结果及分析 | 第87-91页 |
| ·影响光刻结果的误差因素 | 第91-106页 |
| ·光源的非单色性 | 第91-93页 |
| ·相干光束的光强不相等 | 第93-95页 |
| ·漫散射光的存在 | 第95-99页 |
| ·光束的偏振状态差异 | 第99-101页 |
| ·光源的大小 | 第101-102页 |
| ·波前畸变 | 第102-103页 |
| ·干涉光束振幅均匀性 | 第103-105页 |
| ·驻波效应 | 第105-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-109页 |
| 5 全息光刻技术 | 第109-120页 |
| ·全息照相基本原理 | 第109-110页 |
| ·全息光刻的实现方法 | 第110-112页 |
| ·全内反射(TIR)全息光刻的原理 | 第112-113页 |
| ·全息光刻实验研究 | 第113-117页 |
| ·实验装置设计 | 第114-115页 |
| ·实验工艺 | 第115-116页 |
| ·实验结果 | 第116-117页 |
| ·全息光刻技术的主要应用 | 第117页 |
| ·本章小结 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-120页 |
| 6 干涉光刻技术的应用研究 | 第120-128页 |
| ·干涉光刻用于制作光纤光栅 | 第120-122页 |
| ·干涉光刻用于高分辨相位光栅制作 | 第122-123页 |
| ·干涉光刻用于光电子器件场发射器阵列图形的产生 | 第123-124页 |
| ·干涉光刻用于啁啾光栅的制作 | 第124页 |
| ·太阳能吸收器 | 第124-125页 |
| ·干涉光刻用于产生阵列平面光波导 | 第125页 |
| ·干涉光刻用于其它微电子器件研究 | 第125页 |
| ·本章小结 | 第125-126页 |
| 参考文献 | 第126-128页 |
| 7 总结 | 第128-130页 |
| 8 附录 | 第130-136页 |
| ·攻读博士学位期间已发表的论文 | 第130-133页 |
| ·攻读博士学位期间已授权的专利 | 第133-134页 |
| ·攻读博士学位期间负责和参加的科研项目 | 第134-135页 |
| ·攻读博士学位期间的获奖情况 | 第135-136页 |
| 9 声明 | 第136-137页 |
| 10 致谢 | 第137页 |
