| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 综述 | 第7-31页 |
| ·多孔陶瓷 | 第7-15页 |
| ·多孔陶瓷的类型 | 第7-8页 |
| ·多孔陶瓷的制备工艺 | 第8-11页 |
| ·多孔陶瓷的应用 | 第11-13页 |
| ·多孔陶瓷的表征方法 | 第13页 |
| ·多孔陶瓷的发展概况 | 第13-15页 |
| ·氮化硅 | 第15-24页 |
| ·氮化硅的晶体结构 | 第16-17页 |
| ·氮化硅陶瓷的性能 | 第17-18页 |
| ·氮化硅陶瓷的制备方法 | 第18-20页 |
| ·氮化硅陶瓷的应用 | 第20-22页 |
| ·氮化硅陶瓷的发展概况 | 第22-24页 |
| ·非氧化物多孔陶瓷的研究现状 | 第24-26页 |
| ·氮化基多孔陶瓷材料的应用前景 | 第25-26页 |
| ·氮化基多孔陶瓷材料的研究进展 | 第26页 |
| ·反应烧结理论 | 第26-27页 |
| ·常压烧结理论 | 第27-28页 |
| ·液相烧结理论 | 第28-29页 |
| ·课题来源 | 第29-30页 |
| ·课题的主要任务 | 第30-31页 |
| 第二章 实验方案与实验 | 第31-43页 |
| ·实验方案的实施 | 第31-33页 |
| ·烧结助剂的选择 | 第31-32页 |
| ·造孔剂的选择 | 第32页 |
| ·氮化温度与时间的选择 | 第32页 |
| ·成型方法与条件的选择 | 第32-33页 |
| ·氮气压力的选择 | 第33页 |
| ·实验原料 | 第33-35页 |
| ·实验原料列表 | 第33页 |
| ·主要原料的性质及用途 | 第33-35页 |
| ·实验流程 | 第35-36页 |
| ·实验设备 | 第36-37页 |
| ·可行性研究 | 第37-43页 |
| ·Si-N反应的热力学研究 | 第37-39页 |
| ·Si_3N_4氧化行为的热力学研究 | 第39-40页 |
| ·可能发生反应的热力学研究 | 第40-43页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第43-72页 |
| ·探索性实验与XRD分析 | 第43-47页 |
| ·原料Si粉的XRD分析 | 第43页 |
| ·初步探索一 | 第43-45页 |
| ·初步探索二 | 第45-47页 |
| ·不同种类烧结助剂的影响 | 第47-53页 |
| ·以尿素作造孔剂的XRD分析 | 第48-49页 |
| ·以C粉作造孔剂的XRD分析 | 第49-51页 |
| ·烧结助剂的机理探讨 | 第51-53页 |
| ·不同含量烧结助剂的影响 | 第53-56页 |
| ·不同Y_2O_3含量的XRD分析 | 第53-54页 |
| ·不同Al_2O_3含量的XRD分析 | 第54-55页 |
| ·以Al_2O_3为基不同Y_2O_3含量的XRD分析 | 第55-56页 |
| ·以Y_2O_3为基不同Al_2O_3含量的XRD分析 | 第56页 |
| ·不同造孔剂种类和含量的影响 | 第56-59页 |
| ·以Y_2O_3+Al_2O_3作烧结助剂的XRD分析 | 第58-59页 |
| ·以Al_2O_3作烧结助剂的XRD分析 | 第59页 |
| ·SEM及EDAX分析 | 第59-61页 |
| ·孔径的测定与分析 | 第61-63页 |
| ·气孔率的测定与分析 | 第63-66页 |
| ·多元液相的生成机理探讨 | 第66-70页 |
| ·Si-N-O系的平衡机理探讨 | 第70-72页 |
| 第四章 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 附录(攻读硕士学位期间发表论文简况) | 第79页 |
