| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·超导材料简介 | 第9-11页 |
| ·低温超导材料的发现 | 第9-10页 |
| ·高温超导材料的发现 | 第10-11页 |
| ·高温超导薄膜及其制备技术简介 | 第11-14页 |
| ·La_(2-x)Sr_xCuO_4简介及薄膜的研究现状 | 第14-17页 |
| ·( LaSr)2CuO4简介 | 第14-15页 |
| ·La_(2-x)Sr_xCuO_4薄膜的研究现状 | 第15-17页 |
| ·高温超导异质薄膜的研究 | 第17-19页 |
| ·研究的内容和意义 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-24页 |
| 第二章 LSCO 薄膜的 PLD 沉积技术和表征方法 | 第24-34页 |
| ·薄膜的沉积原理 | 第24-26页 |
| ·脉冲激光沉积技术介绍 | 第26-28页 |
| ·脉冲激光沉积概述 | 第26页 |
| ·脉冲激光沉积制备薄膜的过程 | 第26-28页 |
| ·脉冲激光沉积技术的优点 | 第28页 |
| ·本文所用脉冲激光沉积系统介绍 | 第28-30页 |
| ·LSCO 薄膜的表征 | 第30-33页 |
| ·晶体结构表征 | 第30-31页 |
| ·薄膜的形貌表征 | 第31页 |
| ·电学性能表征 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 LSCO 靶材的制备及薄膜沉积工艺研究 | 第34-50页 |
| ·前言 | 第34页 |
| ·LSCO 靶材的制备 | 第34-36页 |
| ·PLD 方法制备 LSCO 薄膜 | 第36-37页 |
| ·PLD 镀膜工艺的研究 | 第37-48页 |
| ·沉积氧分压的影响 | 第37-39页 |
| ·衬底温度的影响 | 第39-42页 |
| ·脉冲激光能量的影响 | 第42-44页 |
| ·靶基距的影响 | 第44-46页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第46-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第四章 La_(1.8)Sr_(0.2)CuO_4(La_(1.9)Sr_(0.1)CuO_4)/Nb:SrTiO_3P-N 结的制备与表征 | 第50-55页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·La_(1.8)Sr_(0.2)CuO_4/Nb:SrTiO_3P-N 结的制备和研究 | 第50-52页 |
| ·La_(1.9)Sr_(0.1)CuO_4/Nb:SrTiO_3P-N 结的制备和研究 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第五章 La_(1.8)Sr_(0.2)CuO_4/La_(1.9)Sr_(0.1)CuO_4双层薄膜的制备与表征 | 第55-69页 |
| ·La_(1.8)Sr_(0.2)CuO_4/La_(1.9)Sr_(0.1)CuO_4双层薄膜的制备 | 第55-59页 |
| ·La_(1.8)Sr_(0.2)CuO_4/La_(1.9)Sr_(0.1)CuO_4双层薄膜不同测试方法的表征 | 第59-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第六章 结论及展望 | 第69-71页 |
| ·结论 | 第69-70页 |
| ·展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 硕士期间的研究成果 | 第72页 |
