Yb:YVO4晶体生长与光谱性质的研究
前言 | 第1-19页 |
第一章 原料合成与表征 | 第19-32页 |
1.1 实验试剂 | 第19页 |
1.1.1 试剂 | 第19页 |
1.1.2 试剂提纯 | 第19页 |
1.2 YVO_4、YbVO_4原料的合成 | 第19-32页 |
1.2.1 液相合成法(湿法合成) | 第19-22页 |
1.2.2 固相合成法 | 第22-26页 |
1.2.3 凝胶水解合成法 | 第26-28页 |
1.2.4 外观颜色不同的原料中钇与钒比例的测定 | 第28-29页 |
1.2.5 原料纯度的分析 | 第29-32页 |
第二章 晶体生长 | 第32-42页 |
2.1 生长装置 | 第34页 |
2.2 籽晶的影响 | 第34-35页 |
2.3 温场的调整 | 第35-36页 |
2.4 退火工艺 | 第36页 |
2.5 生长气氛对晶体生长的影响 | 第36-37页 |
2.6 晶体生长形态 | 第37页 |
2.7 负压化料对晶体质量的影响 | 第37-39页 |
2.8 晶体中OH~-杂质的消除 | 第39-42页 |
第三章 晶体质量评价 | 第42-49页 |
3.1 分凝系数的测定 | 第42-43页 |
3.2 晶胞参数测定 | 第43-45页 |
3.3 晶体的光损伤阈值 | 第45-46页 |
3.4 晶体的光学均匀性 | 第46-49页 |
第四章 晶体的光谱性能 | 第49-59页 |
4.1 吸收光谱的测定 | 第49-51页 |
4.2 荧光光谱的测定 | 第51-56页 |
4.3 退火对晶体吸收光谱的影响 | 第56-59页 |
第五章 晶体缺陷 | 第59-69页 |
5.1 试样制备与实验方法 | 第59-63页 |
5.2 缺陷成因 | 第63-66页 |
5.3 晶体散射 | 第66-68页 |
5.4 减少或消除缺陷的几种措施 | 第68-69页 |
结论 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-76页 |