| 第一章 绪论 | 第1-31页 |
| §1．1 引言 | 第7-9页 |
| §1．2 等离子体源离子注入技术发展概述 | 第9-11页 |
| §1．3 等离子体源离子注入装置及其工作原理 | 第11-13页 |
| §1．4 等离子体源离子注入的鞘层理论及其扩展动力学模型 | 第13-15页 |
| §1．5 注入离子与材料的物理相互作用 | 第15-22页 |
| §1．6 等离子体源离子注入材料表面改性及其机制 | 第22-29页 |
| §1．7 本文的研究目的、意义和主要研究内容 | 第29-31页 |
| 第二章 等离子体源离子注入装置及工作原理 | 第31-39页 |
| §2．1 脉冲负高压源系统 | 第32-34页 |
| §2．2 热阴极弧放电系统 | 第34-35页 |
| §2．3 真空室及样品台 | 第35-36页 |
| §2．4 真空系统 | 第36-37页 |
| §2．5 监测系统 | 第37-38页 |
| §2．6 本章小结 | 第38-39页 |
| 第三章 等离子体源离子注入系统中的等离子体诊断 | 第39-54页 |
| §3．1 引言 | 第39页 |
| §3．2 试验方法 | 第39-42页 |
| §3．3 等离子体密度、电子温度及其影响因素 | 第42-46页 |
| §3．4 等离子体密度分布 | 第46-48页 |
| §3．5 等离子体鞘层扩展动力学实验研究 | 第48-53页 |
| §3．6 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 等离子体源材料内表面离子注入新方法 | 第54-73页 |
| §4．1 引言 | 第54-55页 |
| §4．2 内表面注入装置及工作原理 | 第55-59页 |
| §4．3 鞘层物理模型及鞘层扩展动力学研究 | 第59-68页 |
| §4．4 40Cr圆筒样品的内表面改性注入 | 第68-72页 |
| §4．5 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 注入离子与金属材料的相互作用 | 第73-102页 |
| §5．1 引言 | 第73-74页 |
| §5．2 材料及试验方法 | 第74-76页 |
| §5．3 注入离子在金属材料基底中的射程及其纵向分布 | 第76-83页 |
| §5．4 注入离子与金属基底原子的化学反应及其反应生成相 | 第83-98页 |
| §5．5 离子注入对金属基底显微组织结构的影响 | 第98-101页 |
| §5．6 本章小结 | 第101-102页 |
| 第六章 等离子体源离子注入材料表面改性及强化机理研究 | 第102-116页 |
| §6．1 引言 | 第102页 |
| §6．2 材料与试验方法 | 第102-104页 |
| §6．3 表面硬度 | 第104-109页 |
| §6．4 摩擦系数 | 第109-111页 |
| §6．5 磨损特性 | 第111-115页 |
| §6．6 本章小结 | 第115-116页 |
| 第七章 结论 | 第116-118页 |
| 参考文献 | 第118-123页 |
| 附录 | 第123-125页 |
| 致谢 | 第125页 |
