纳米粒子并合、沉积和纳米压痕的计算模拟研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-28页 |
| ·课题研究背景和意义 | 第12-17页 |
| ·纳米材料与纳米技术 | 第12-15页 |
| ·团簇并合、沉积与纳米组装体系 | 第15-16页 |
| ·纳米压痕技术及其应用 | 第16-17页 |
| ·材料科学研究中的计算机模拟 | 第17-20页 |
| ·材料的计算机模拟 | 第17-18页 |
| ·纳米粒子并合与沉积的分子动力学模拟 | 第18页 |
| ·纳米压痕的计算机模拟 | 第18-20页 |
| ·本文结构和内容 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-28页 |
| 第2章 分子动力学(MD)模拟技术 | 第28-42页 |
| ·引言 | 第28-32页 |
| ·对偶势 | 第29-30页 |
| ·EAM多体势 | 第30-32页 |
| ·分子动力学(MD)模拟技术 | 第32-40页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·基本方程和数值解法 | 第32-34页 |
| ·边界条件 | 第34-35页 |
| ·模拟系综与温度和压力的控制方法 | 第35-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 第3章 团簇并合与沉积的分子动力学模拟研究 | 第42-66页 |
| ·铜团簇的熔化与凝固 | 第42-47页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·静态下纳米团簇的能量和结构特征 | 第42-43页 |
| ·团簇的熔化与凝固过程模拟 | 第43-47页 |
| ·铜团簇的并合 | 第47-54页 |
| ·引言 | 第47-49页 |
| ·并合过程的尺寸效应 | 第49-51页 |
| ·并合过程的温度效应 | 第51-54页 |
| ·铜团簇在铜衬底上沉积过程的分子动力学模拟 | 第54-63页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·沉积模型 | 第55-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-66页 |
| 第4章 准连续介质模拟(QC)模拟技术 | 第66-74页 |
| ·引言 | 第66页 |
| ·晶格静力学与有限元方法的基本思想 | 第66-68页 |
| ·准连续介质方法实现的基本步骤 | 第68-72页 |
| ·位移场和总能量 | 第68页 |
| ·减少自由度和代表原子的选取 | 第68-70页 |
| ·准连续介质模拟的局部处理方法 | 第70页 |
| ·准连续介质模拟的非局域处理方法 | 第70-71页 |
| ·局域与非局域耦合QC | 第71页 |
| ·网格的自适应—细化与粗化 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第5章 单晶铜纳米压痕的准连续介质模拟研究 | 第74-94页 |
| ·引言 | 第74-75页 |
| ·压痕模型 | 第75-77页 |
| ·结果与讨论 | 第77-90页 |
| ·完全弹性范围的加载和卸载过程 | 第77-78页 |
| ·加载过程中位错发射的临界载荷分析与计算 | 第78-79页 |
| ·加载过程中位错形核结构分析 | 第79-82页 |
| ·位错形核的中心对称参数分析 | 第82-86页 |
| ·二次位错发射与几何必需位错密度 | 第86-87页 |
| ·卸载过程中位错的运动与湮灭 | 第87-90页 |
| ·小结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-94页 |
| 第6章 结论 | 第94-96页 |
| 附录 | 第96-98页 |
| 致谢 | 第98-100页 |
| 攻读学位期间发表的论著和科研、获奖情况 | 第100-102页 |
| 作者简介 | 第102页 |
