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铜、Q235钢表面自组装缓蚀功能膜的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 背景、现状及意义第10-28页
   ·自组装技术简介第10-16页
     ·自组装膜的研究概况第10-11页
     ·自组装膜的特征及分类第11-16页
   ·自组装技术在金属腐蚀与防护领域研究进展第16-20页
     ·国内外研究现状分析第16-19页
       ·金属铜上自组装膜的研究第17-18页
       ·金属铁上自组装膜的研究第18-19页
     ·发展前景预测第19-20页
   ·自组装膜的表征技术第20-25页
     ·扫描隧道显微镜第20-22页
     ·X 射线光电子能谱第22-23页
     ·电化学研究第23-24页
     ·扫描电子显微镜第24页
     ·红外光谱技术第24-25页
   ·本论文研究内容,研究目标以及拟解决的关键问题第25-26页
     ·论文的研究内容第25页
     ·本论文的研究目标第25页
     ·拟解决的关键问题第25-26页
   ·研究特色与创新之处论述第26-27页
   ·拟采取的研究方案与技术路线第27-28页
第二章 本论文的实验方法和可行性分析第28-31页
   ·电极与溶液第28-29页
     ·电极的制备第28页
     ·所用的试剂及溶液第28页
     ·自组装膜的制备第28-29页
   ·仪器和实验方法第29-30页
     ·电解池体系第29页
     ·电化学交流阻抗测试第29页
     ·电化学氧化实验测试第29页
     ·极化曲线测试第29页
     ·循环伏安曲线测试第29-30页
     ·失重法测试第30页
     ·扫描电子显微镜测试(SEM)第30页
   ·实验可行性分析第30-31页
第三章 硫脲及其衍生物在铜表面自组装膜的研究第31-46页
   ·引言第31-32页
   ·硫脲及其衍生物自组装膜的制备第32页
   ·硫脲及其衍生物自组装膜的电化学测试第32-43页
     ·硫脲及其衍生物自组装膜的电化学阻抗谱研究第32-35页
     ·烯丙基硫脲(AT)自组装膜的极化曲线和电化学氧化测试第35-43页
       ·AT 自组装膜覆盖铜电极在NaCl 中电化学氧化测试第35-40页
       ·AT 自组装膜覆盖铜电极在NaCl 中极化行为第40-43页
   ·硫脲及其衍生物自组装膜SEM 表征第43-44页
   ·结论第44-46页
第四章 植酸在 Q235 钢表面自组装膜的研究第46-62页
   ·引言第46-47页
   ·Q235 碳钢成分与植酸自组装膜的制备第47-48页
   ·失重法测试植酸自组装膜的缓蚀效率第48-51页
   ·植酸自组装膜SEM 表征第51-53页
   ·植酸自组装膜的电化学测试第53-56页
     ·植酸成膜过程中腐蚀电位(E_(corr))的实时监测第53-54页
     ·植酸自组装膜的循环伏安(CV)测试第54-56页
   ·中性条件下植酸化学转化膜第56-61页
     ·中性条件下植酸化学转化膜SEM / EDS 表征第56-58页
     ·中性条件下植酸化学转化膜电化学表征第58-61页
   ·结论第61-62页
第五章 总结第62-63页
参考文献第63-69页
致谢第69-70页
唐丽娜硕士期间研究工作成果第70页

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