摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-10页 |
第一章 背景、现状及意义 | 第10-28页 |
·自组装技术简介 | 第10-16页 |
·自组装膜的研究概况 | 第10-11页 |
·自组装膜的特征及分类 | 第11-16页 |
·自组装技术在金属腐蚀与防护领域研究进展 | 第16-20页 |
·国内外研究现状分析 | 第16-19页 |
·金属铜上自组装膜的研究 | 第17-18页 |
·金属铁上自组装膜的研究 | 第18-19页 |
·发展前景预测 | 第19-20页 |
·自组装膜的表征技术 | 第20-25页 |
·扫描隧道显微镜 | 第20-22页 |
·X 射线光电子能谱 | 第22-23页 |
·电化学研究 | 第23-24页 |
·扫描电子显微镜 | 第24页 |
·红外光谱技术 | 第24-25页 |
·本论文研究内容,研究目标以及拟解决的关键问题 | 第25-26页 |
·论文的研究内容 | 第25页 |
·本论文的研究目标 | 第25页 |
·拟解决的关键问题 | 第25-26页 |
·研究特色与创新之处论述 | 第26-27页 |
·拟采取的研究方案与技术路线 | 第27-28页 |
第二章 本论文的实验方法和可行性分析 | 第28-31页 |
·电极与溶液 | 第28-29页 |
·电极的制备 | 第28页 |
·所用的试剂及溶液 | 第28页 |
·自组装膜的制备 | 第28-29页 |
·仪器和实验方法 | 第29-30页 |
·电解池体系 | 第29页 |
·电化学交流阻抗测试 | 第29页 |
·电化学氧化实验测试 | 第29页 |
·极化曲线测试 | 第29页 |
·循环伏安曲线测试 | 第29-30页 |
·失重法测试 | 第30页 |
·扫描电子显微镜测试(SEM) | 第30页 |
·实验可行性分析 | 第30-31页 |
第三章 硫脲及其衍生物在铜表面自组装膜的研究 | 第31-46页 |
·引言 | 第31-32页 |
·硫脲及其衍生物自组装膜的制备 | 第32页 |
·硫脲及其衍生物自组装膜的电化学测试 | 第32-43页 |
·硫脲及其衍生物自组装膜的电化学阻抗谱研究 | 第32-35页 |
·烯丙基硫脲(AT)自组装膜的极化曲线和电化学氧化测试 | 第35-43页 |
·AT 自组装膜覆盖铜电极在NaCl 中电化学氧化测试 | 第35-40页 |
·AT 自组装膜覆盖铜电极在NaCl 中极化行为 | 第40-43页 |
·硫脲及其衍生物自组装膜SEM 表征 | 第43-44页 |
·结论 | 第44-46页 |
第四章 植酸在 Q235 钢表面自组装膜的研究 | 第46-62页 |
·引言 | 第46-47页 |
·Q235 碳钢成分与植酸自组装膜的制备 | 第47-48页 |
·失重法测试植酸自组装膜的缓蚀效率 | 第48-51页 |
·植酸自组装膜SEM 表征 | 第51-53页 |
·植酸自组装膜的电化学测试 | 第53-56页 |
·植酸成膜过程中腐蚀电位(E_(corr))的实时监测 | 第53-54页 |
·植酸自组装膜的循环伏安(CV)测试 | 第54-56页 |
·中性条件下植酸化学转化膜 | 第56-61页 |
·中性条件下植酸化学转化膜SEM / EDS 表征 | 第56-58页 |
·中性条件下植酸化学转化膜电化学表征 | 第58-61页 |
·结论 | 第61-62页 |
第五章 总结 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
唐丽娜硕士期间研究工作成果 | 第70页 |