熔盐电解法制备二硼化镁膜的工艺研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·超导体简介 | 第9-13页 |
| ·超导的发展史 | 第9-10页 |
| ·超导体的基本概念 | 第10-12页 |
| ·超导的应用 | 第12-13页 |
| ·二硼化镁超导体简介 | 第13-14页 |
| ·薄膜的简介 | 第14-15页 |
| ·熔盐电解的简介 | 第15-18页 |
| ·熔盐电解研究历史和发展 | 第16-17页 |
| ·熔盐电解的特性 | 第17-18页 |
| ·本文的目的及意义 | 第18-19页 |
| 第二章 基本原理和检测方法 | 第19-41页 |
| ·基本原理 | 第19-36页 |
| ·超导机理 | 第19-20页 |
| ·膜的形成原理 | 第20-22页 |
| ·熔盐的基本原理 | 第22-27页 |
| ·MgB_2的超导机理 | 第27-36页 |
| ·检测方法 | 第36-41页 |
| ·X射线衍射分析 | 第36-37页 |
| ·透射电镜分析 | 第37-38页 |
| ·电学性质测量 | 第38-39页 |
| ·磁学性质测量 | 第39-41页 |
| 第三章 实验 | 第41-54页 |
| ·MgB_2膜制备条件的确定 | 第41-51页 |
| ·实验药品 | 第41-42页 |
| ·实验温度 | 第42-43页 |
| ·电解电压 | 第43-45页 |
| ·MgB_2膜制备的设备及连接 | 第45-51页 |
| ·MgB_2膜的制备 | 第51页 |
| ·测试设备的调试及测试样品的制备 | 第51-54页 |
| ·理学X射线衍射仪的调整 | 第51-53页 |
| ·透射电镜截面样品制备 | 第53-54页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第54-67页 |
| ·MgB_2膜的结构性质 | 第54-62页 |
| ·X射线衍射分析 | 第54-60页 |
| ·透射电镜分析 | 第60-62页 |
| ·扫描电镜分析 | 第62页 |
| ·MgB_2膜的物理性质 | 第62-63页 |
| ·讨论 | 第63-67页 |
| 全文结论 | 第67-68页 |
| 课题展望 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 硕士研究生期间在投论文 | 第74页 |
