| 中文摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-40页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·DLC 薄膜的结构 | 第11-22页 |
| ·DLC 薄膜的结构模型 | 第12-15页 |
| ·DLC 薄膜的结构分析方法 | 第15-22页 |
| ·DLC 薄膜的制备技术 | 第22-27页 |
| ·物理气相沉积(physical vapour deposition) | 第22-26页 |
| ·化学气相沉积(physical vapour deposition) | 第26-27页 |
| ·DLC 薄膜的生长机理 | 第27-28页 |
| ·DLC 薄膜的性能和应用 | 第28-31页 |
| ·机械领域的应用 | 第28-30页 |
| ·电子领域的应用 | 第30页 |
| ·医学领域的应用 | 第30-31页 |
| ·论文的选题依据、研究思路和研究内容 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-40页 |
| 第二章 离子束溅射法制备DLC 超薄膜的结构和摩擦学性能研究 | 第40-55页 |
| ·引言 | 第40-42页 |
| ·实验部分 | 第42-44页 |
| ·基底预处理 | 第42页 |
| ·ICP 氩离子轰击清洗 | 第42页 |
| ·薄膜制备 | 第42页 |
| ·性能检测 | 第42-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-52页 |
| ·负偏压对薄膜表面形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·负偏压对薄膜结构的影响 | 第46-47页 |
| ·负偏压对薄膜摩擦学性能的影响 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 第三章 射频感应耦合化学气相沉积类金刚石超薄膜的结构和摩擦学性能研究 | 第55-67页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·实验部分 | 第56-57页 |
| ·基底预处理 | 第56页 |
| ·ICP 氩离子轰击清洗 | 第56页 |
| ·薄膜制备 | 第56页 |
| ·性能检测 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-64页 |
| ·负偏压对薄膜表面形貌的影响 | 第57-60页 |
| ·负偏压对薄膜结构的影响 | 第60-61页 |
| ·负偏压对薄膜摩擦学性能的影响 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 第四章 掺硅类金刚石超薄膜的结构和摩擦学性能研究 | 第67-80页 |
| ·引言 | 第67-68页 |
| ·实验部分 | 第68-69页 |
| ·基底预处理 | 第68页 |
| ·ICP 氩离子轰击清洗 | 第68页 |
| ·薄膜制备 | 第68-69页 |
| ·性能检测 | 第69页 |
| ·结果与讨论 | 第69-78页 |
| ·硅含量对薄膜结构的影响 | 第69-74页 |
| ·硅含量对薄膜摩擦学性能的影响 | 第74-78页 |
| ·本章小结 | 第78页 |
| 参考文献 | 第78-80页 |
| 第五章 结论 | 第80-82页 |
| 硕士期间发表和完成的论文 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
