| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 综述 | 第10-53页 |
| ·选题背景 | 第10-13页 |
| ·降低介电常数的常用方法 | 第13-15页 |
| ·降低极化率 | 第13-14页 |
| ·降低材料密度 | 第14-15页 |
| ·低介电常数材料的性能要求 | 第15页 |
| ·低介电常数材料的研究进展 | 第15-34页 |
| ·无机类低介电常数材料 | 第15-20页 |
| ·有机低介电常数材料 | 第20-30页 |
| ·有机-无机杂化低介电常数材料 | 第30-34页 |
| ·目前低介电材料存在的不足 | 第34-35页 |
| ·本文的研究目标及方案 | 第35-39页 |
| ·研究目标 | 第35-36页 |
| ·研究方案 | 第36-39页 |
| ·本论文主要创新点 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-53页 |
| 第二章 功能性单体的合成及性能 | 第53-75页 |
| ·前言 | 第53页 |
| ·目标功能单体的设计与合成路线 | 第53-55页 |
| ·目标功能性单体 | 第53-54页 |
| ·功能性单体的合成路线 | 第54-55页 |
| ·功能性单体的合成及结构表征 | 第55-58页 |
| ·试剂及原料 | 第55页 |
| ·主要仪器 | 第55-56页 |
| ·功能性单体的合成 | 第56-58页 |
| ·功能性单体的热性能与液晶性能 | 第58-65页 |
| ·单体热性能分析 | 第59-62页 |
| ·单体的织构分析 | 第62-63页 |
| ·单体A和B的XRD分析 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 附图 | 第69-75页 |
| 第三章 POSS基杂化交联聚合物的合成与表征 | 第75-97页 |
| ·前言 | 第75-76页 |
| ·目标聚合物的设计和合成路线 | 第76-81页 |
| ·目标聚合物的设计 | 第76-80页 |
| ·目标聚合物的合成路线 | 第80页 |
| ·目标聚合物的合成条件选择 | 第80-81页 |
| ·POSS交联聚合物的合成及结构分析 | 第81-91页 |
| ·仪器与试剂 | 第81-82页 |
| ·POSS交联聚合物的合成 | 第82-91页 |
| ·结论 | 第91-92页 |
| 参考文献 | 第92-97页 |
| 第四章 POSS基低介电常数多孔薄膜的制备与性能研究 | 第97-138页 |
| ·前言 | 第97-98页 |
| ·实验部分 | 第98-102页 |
| ·试剂与原料 | 第98-99页 |
| ·主要仪器 | 第99页 |
| ·POSS交联聚合物薄膜的制备 | 第99-101页 |
| ·聚合物薄膜的表征方法 | 第101-102页 |
| ·结果与讨论 | 第102-125页 |
| ·制膜工艺的选择 | 第102页 |
| ·旋涂工艺 | 第102-104页 |
| ·固化工艺 | 第104-106页 |
| ·薄膜的热稳定性表征 | 第106-109页 |
| ·多孔薄膜的氮吸附表征 | 第109-112页 |
| ·薄膜的聚集态表征 | 第112-113页 |
| ·薄膜的形貌表征 | 第113-117页 |
| ·薄膜的力学性能表征 | 第117-119页 |
| ·薄膜的疏水性能表征 | 第119-121页 |
| ·薄膜的介电性能表征 | 第121-125页 |
| ·本章结论 | 第125-127页 |
| 参考文献 | 第127-132页 |
| 附图 | 第132-138页 |
| 第五章 结论 | 第138-140页 |
| 致谢 | 第140-141页 |
| 学习期间发表或提交的论文 | 第141页 |