| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·电接触科学的定义 | 第8-9页 |
| ·电接触研究的重要性 | 第9页 |
| ·研究的背景,意义 | 第9-10页 |
| ·课题综述 | 第9-10页 |
| ·课题的背景,意义 | 第10页 |
| ·研究内容和技术路线 | 第10-14页 |
| ·研究内容 | 第11页 |
| ·技术路线 | 第11-14页 |
| 第二章 电接触理论及设备 | 第14-26页 |
| ·电接触理论 | 第14-17页 |
| ·接触面积 | 第14-15页 |
| ·收缩电阻 | 第15-17页 |
| ·电阻测试方法 | 第17-18页 |
| ·试验设备 | 第18-25页 |
| ·微动台 | 第18-19页 |
| ·扫描电子显微镜与能谱仪 | 第19-23页 |
| ·滑动台 | 第23页 |
| ·光学显微镜 | 第23-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 颗粒的观察与识别 | 第26-32页 |
| ·颗粒实际形态 | 第26页 |
| ·观察,测定颗粒大小的方法 | 第26-27页 |
| ·目和微米的换算关系 | 第26-27页 |
| ·光学相片的单位长度所含像素的标定 | 第27页 |
| ·照片中颗粒测量的标准 | 第27页 |
| ·颗粒尺寸的测定 | 第27-30页 |
| ·放大倍数为100倍下颗粒观察和测定 | 第28-29页 |
| ·放大倍数为200倍下颗粒的观察和测定 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 静态条件下的研究 | 第32-42页 |
| ·静态实验的研究方法 | 第32页 |
| ·照片中被压后颗粒形态的分类 | 第32页 |
| ·照片中参照物的选取以及颗粒尺寸的测量方法 | 第32页 |
| ·静态条件下洁净样片的电阻测试 | 第32-34页 |
| ·静态条件下单颗粒的电阻测试和分析 | 第34-38页 |
| ·尺寸为150-212μm二氧化硅颗粒的静态电阻实验 | 第34-36页 |
| ·尺寸为75-150μm二氧化硅颗粒的静态电阻实验 | 第36-38页 |
| ·对被压碎的单颗粒研究与分析 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第五章 动态条件下的研究 | 第42-60页 |
| ·动态条件下洁净样片的接触电阻值 | 第42-43页 |
| ·洁净样片接触电阻的理论值 | 第42-43页 |
| ·洁净样片接触电阻的实验值 | 第43页 |
| ·尺寸75-150μm二氧化硅颗粒的动态电阻实验的分析研究 | 第43-49页 |
| ·尺寸75-150μm二氧化硅颗粒的动态电阻实验方法 | 第43-44页 |
| ·颗粒存在情况下微动压力的影响 | 第44-49页 |
| ·尺寸75-150μm二氧化硅颗粒的动态电阻实验结论 | 第49页 |
| ·尺寸150-212μm二氧化硅颗粒的动态电阻实验的分析研究 | 第49-55页 |
| ·颗粒存在情况下微动压力的影响 | 第50-55页 |
| ·尺寸150-212μm二氧化硅颗粒的动态电阻实验结论 | 第55页 |
| ·两种颗粒在不同压力下试验结果的对比分析 | 第55-58页 |
| ·两种颗粒在不同压力下试验结果的共同点 | 第56-57页 |
| ·两种颗粒在不同压力下试验结果的不同点 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第六章 研究总结及展望 | 第60-62页 |
| ·研究总结 | 第60页 |
| ·讨论与展望 | 第60-62页 |
| ·颗粒被压后电阻值与颗粒被压位置的关系 | 第61页 |
| ·单颗粒尺寸大小对实验电阻值的影响的研究方法 | 第61页 |
| ·颗粒在样片上的分布密度对电接触的影响的讨论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第66页 |
