| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·PVD气相沉积方法 | 第10-15页 |
| ·磁控溅射低温沉积技术的发展 | 第12-15页 |
| ·外部低温等离子体辅助磁控溅射技术 | 第15-18页 |
| ·射频辅助磁控溅射技术 | 第16-17页 |
| ·离子源辅助磁控溅射技术 | 第17-18页 |
| ·外部等离子体辅助磁控溅射沉积的研究动态 | 第18-19页 |
| ·本研究的目的、意义和内容 | 第19-21页 |
| ·研究的目的和意义 | 第19页 |
| ·研究内容 | 第19-21页 |
| 第二章 实验方法以及分析测试手段 | 第21-27页 |
| ·实验研究思路 | 第21-22页 |
| ·实验设备 | 第22页 |
| ·实验材料 | 第22-23页 |
| ·制备氮化钛薄膜基本工艺流程 | 第23页 |
| ·测试手段 | 第23-27页 |
| 第三章 氮化钛薄膜沉积工艺 | 第27-38页 |
| ·基本工艺参数设计 | 第27-30页 |
| ·氮化钛薄膜的表面形貌和截面 | 第28-29页 |
| ·薄膜XRD分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜能谱分析 | 第30页 |
| ·沉积参数对氮化钛薄膜的影响 | 第30-37页 |
| ·射频功率对氮化钛薄膜的色泽影响 | 第30-31页 |
| ·氮气流量对氮化钛薄膜机械性能和结构的影响 | 第31-33页 |
| ·脉冲负偏压对氮化钛薄膜机械性能和结构的影响 | 第33-35页 |
| ·沉积总压对氮化钛薄膜机械性能和结构的影响 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 阳极层线性离子源功率对薄膜结构和性能的影响 | 第38-45页 |
| ·阳极层线性离子源功率对薄膜表面形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·阳极层线性离子源功率对薄膜相结构的影响 | 第39-40页 |
| ·阳极层线性离子源功率对薄膜硬度的影响 | 第40-41页 |
| ·阳极层线性离子源功率对膜基结合强度的影响 | 第41-42页 |
| ·阳极层线性离子源功率对薄膜耐磨性的影响 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 氮化钛薄膜与GCR15钢球配副件摩擦学特性分析 | 第45-55页 |
| ·磁控溅射与电弧离子镀氮化钛薄膜的摩擦学特性 | 第45-47页 |
| ·磁控溅射与电弧离子镀氮化钛薄膜配副件的磨损状况 | 第47-50页 |
| ·氮化钛薄膜表面形貌与配副件的磨损量的关系 | 第50-54页 |
| ·表面处理对氮化钛薄膜表面形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·表面处理对摩擦曲线的影响 | 第51页 |
| ·表面处理对配副件磨损量的影响 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 结论 | 第55-57页 |
| ·主要结论 | 第55-56页 |
| ·对今后工作的展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第63页 |